化工儀器網(wǎng)手機(jī)版
移動(dòng)端訪問(wèn)更便捷今日焦點(diǎn) Today's Focus
查看更多+-
2025年政府工作報(bào)告:部署科技創(chuàng)新等關(guān)鍵領(lǐng)域
國(guó)務(wù)院總理李強(qiáng)在政府工作報(bào)告中,圍繞推動(dòng)經(jīng)濟(jì)[詳細(xì)]

近期,中國(guó)科學(xué)院微電子研究所連續(xù)發(fā)布多項(xiàng)儀器設(shè)備采購(gòu)意向,預(yù)算金額達(dá)28366萬(wàn)元。涉及儀器設(shè)備包括全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡、刻蝕設(shè)備、X射線光電子能譜儀、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備、干法去膠機(jī)等。
采購(gòu)項(xiàng)目名稱 | 采購(gòu)需求概況 | 預(yù)算金額(萬(wàn)元) | 預(yù)計(jì)采購(gòu)日期 |
硅片 | 制備半導(dǎo)體器件,數(shù)量700片 | 150 | 2025年02月 |
4G-LTE Cat.1通信SOC芯片晶圓 | 4G-LTE Cat.1通信的SOC芯片及其配套的PMIC芯片,晶圓數(shù)量各1張 | 160 | 2025年03月 |
高溫集成電路與元器件 | 高溫集成電路與元器件 | 140 | 2025年03月 |
全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡 | 全自動(dòng)光學(xué)顯微鏡1臺(tái) | 150 | 2025年04月 |
新型存儲(chǔ)器刻蝕系統(tǒng) | 新型存儲(chǔ)器刻蝕系統(tǒng)1臺(tái) | 1500 | 2025年04月 |
激光發(fā)生裝置 | 激光發(fā)生裝置 | 130 | 2025年04月 |
12英寸槽式小尺寸高精度橫向濕法刻蝕設(shè)備 | 12英寸槽式小尺寸高精度橫向濕法刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 3800 | 2025年04月 |
數(shù)?;旌暇C合老化系統(tǒng) | 數(shù)?;旌暇C合老化系統(tǒng)1臺(tái) | 114 | 2025年04月 |
穩(wěn)態(tài)熱阻測(cè)試系統(tǒng) | 穩(wěn)態(tài)熱阻測(cè)試系統(tǒng)1臺(tái) | 115 | 2025年04月 |
三維集成封裝動(dòng)態(tài)數(shù)字全息顯微分析儀 | 三維集成封裝動(dòng)態(tài)數(shù)字全息顯微分析儀1臺(tái) | 252 | 2025年05月 |
低溫變頻C-V測(cè)試設(shè)備 | 低溫變頻C-V測(cè)試設(shè)備 | 350 | 2025年05月 |
透射電子顯微鏡(TEM)、聚焦離子束顯微鏡(FIB)以及二次離子質(zhì)譜(SIMS)等半導(dǎo)體測(cè)試分析 | 透射電子顯微鏡(TEM)、聚焦離子束顯微鏡(FIB)以及二次離子質(zhì)譜(SIMS)等半導(dǎo)體測(cè)試分析 | 1000 | 2025年05月 |
離子刻蝕機(jī) | 離子刻蝕機(jī)1臺(tái) | 810 | 2025年05月 |
光譜檢測(cè)儀 | 日本橫河 AQ6380 光譜檢測(cè)儀1 臺(tái) | 100 | 2025年06月 |
低頻阻抗分析儀 | 低頻阻抗分析儀1 臺(tái) | 100 | 2025年06月 |
X射線光電子能譜儀 | X射線光電子能譜儀 | 900 | 2025年06月 |
激光隱形切割成套設(shè)備 | 激光隱形切割成套設(shè)備 | 1000 | 2025年06月 |
12吋晶圓等離子劃片機(jī) | 12吋晶圓等離子劃片機(jī) | 1880 | 2025年06月 |
12吋晶圓級(jí)激光去膠開(kāi)槽設(shè)備 | 12吋晶圓級(jí)激光去膠開(kāi)槽設(shè)備 | 800 | 2025年06月 |
12吋晶圓級(jí)無(wú)機(jī)紅外拆鍵合設(shè)備 | 12吋晶圓級(jí)無(wú)機(jī)紅外拆鍵合設(shè)備 | 5300 | 2025年06月 |
翹曲測(cè)量?jī)x | 翹曲測(cè)量?jī)x | 620 | 2025年06月 |
12吋物理氣相沉積設(shè)備 | 12吋物理氣相沉積設(shè)備 | 2300 | 2025年06月 |
PVTC-A1比容量?jī)x | PVTC-A1比容量?jī)x | 245 | 2025年06月 |
流片 | 流片50顆 | 100 | 2025年06月 |
低噪聲高頻信號(hào)發(fā)生器 | 低噪聲高頻信號(hào)發(fā)生器1臺(tái) | 180 | 2025年06月 |
high-K介質(zhì)電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備 | high-K介質(zhì)電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 900 | 2025年06月 |
干法去膠機(jī) | 干法去膠機(jī)1臺(tái) | 200 | 2025年06月 |
高深寬比橫向濕法刻蝕設(shè)備 | 高深寬比橫向濕法刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 1210 | 2025年06月 |
金屬及金屬氧化物原子層沉積設(shè)備 | 金屬及金屬氧化物原子層沉積設(shè)備1臺(tái) | 1800 | 2025年06月 |
金屬及金屬氧化物電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備 | 金屬及金屬氧化物電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備1臺(tái) | 860 | 2025年06月 |
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備 | 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備1臺(tái) | 1200 | 2025年06月 |
相關(guān)閱讀 Related Reading
查看更多+-
顯微結(jié)構(gòu)、物相分析測(cè)試系統(tǒng)1套中標(biāo)結(jié)果公告
項(xiàng)目名稱:顯微結(jié)構(gòu)、物相分析測(cè)試系統(tǒng),項(xiàng)目編號(hào):3873-254HFWLGJ001,招標(biāo)范圍:顯微結(jié)構(gòu)、物相分析測(cè)試系統(tǒng)1套,招標(biāo)...2025-03-06 13:17:05 -
顯微結(jié)構(gòu)、物相分析測(cè)試系統(tǒng)中標(biāo)結(jié)果公告
項(xiàng)目名稱:顯微結(jié)構(gòu)、物相分析測(cè)試系統(tǒng),項(xiàng)目編號(hào):3873-254HFWLGJ001,招標(biāo)范圍:顯微結(jié)構(gòu)、物相分析測(cè)試系統(tǒng)1套,招標(biāo)...2025-03-05 10:24:47 -
預(yù)算364.5萬(wàn) 福建省兒童醫(yī)院采購(gòu)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
近日,福建省兒童醫(yī)院就“實(shí)驗(yàn)室設(shè)備一批(流式細(xì)胞儀等)”項(xiàng)目發(fā)布公開(kāi)招標(biāo)公告,預(yù)算金額為364.5萬(wàn)元。2025-03-05 09:00:35 -
新量子傳感器顯微鏡問(wèn)世 光學(xué)儀器再添“利器”!
新顯微鏡——核自旋顯微鏡問(wèn)世,該顯微鏡可通過(guò)量子傳感器將核磁共振產(chǎn)生的磁信號(hào)轉(zhuǎn)換為光信號(hào),獲得分辨率達(dá)0.1微米的微觀圖像,助力科...2025-03-03 10:42:14 -
預(yù)算705萬(wàn) 北京市醫(yī)療器械檢驗(yàn)研究院采購(gòu)酶標(biāo)儀等
近日,北京市醫(yī)療器械檢驗(yàn)研究院就“北京市醫(yī)療器械檢驗(yàn)研究院檢驗(yàn)設(shè)備購(gòu)置(醫(yī)療器械)”項(xiàng)目發(fā)布公開(kāi)招標(biāo)公告,預(yù)算金額為705.178...2025-03-03 08:58:34 -
1400 展商名單完整版來(lái)了!光電大展3月來(lái)襲!
慕尼黑上海光博會(huì)將于2025年3月11-13日在上海新國(guó)際博覽中心-3號(hào)入口廳N1-N5,E7-E4館盛大召開(kāi)。2025-02-28 10:09:44
版權(quán)與免責(zé)聲明
- ①凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其他方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- ②本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- ③如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。