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測(cè)量鋰離子電池隔膜膜厚測(cè)厚儀

2024-11-02

產(chǎn)      地:
日本
所在地區(qū):
北京北京市
有效期還剩 343舉報(bào)該信息

1730536975241.jpg


    • 1

    • 測(cè)量半透明片材、
      低反射膜、硅等的厚度,這在光學(xué)干涉測(cè)量法中是困難的


    • 2

    • 微型光纖探頭

      由于使用了 30 毫米的小型反射探頭,
      它可以安裝在設(shè)備或生產(chǎn)線(xiàn)的狹小空間內(nèi)。
      此外,由于探頭僅通過(guò)
      光纖連接到主機(jī),因此具有出色的耐環(huán)境性。


    • 3

    • 高速測(cè)量:

      100 個(gè)點(diǎn)或更高處同時(shí)采樣 950~1650 nm 的近紅外波長(zhǎng)

      可實(shí)現(xiàn)短至 1 毫秒的高速采樣。
      可以在生產(chǎn)線(xiàn)上進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)和測(cè)量。
      由于干涉濾光片不旋轉(zhuǎn),因此具有出色的耐用性和可靠性。


    • 4

    • 厚度測(cè)量重復(fù)性:0.1% 或更低 (3σ)


    • 5

    • 兩種可選的測(cè)量算法

      測(cè)量算法校準(zhǔn)樣品測(cè)量目標(biāo)
      Beer-Lambert 法1 種僅厚度
      最小二乘回歸2 種或更多類(lèi)型倍數(shù)(厚度、密度、特定成分的混合量等)


測(cè)量示例(鋰離子電池隔膜)

可以同時(shí)測(cè)量厚度和涂層重量。

測(cè)量示例(硅襯底上黑色光刻膠的膜厚)

可以測(cè)量硅襯底上黑色光刻膠的薄膜厚度,而使用反射光譜法使用光學(xué)干涉涂層測(cè)厚儀很難做到這一點(diǎn)
。

配置



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