◆ 儀器簡(jiǎn)介

RST5200電化學(xué)工作站是一臺(tái)通用電化學(xué)儀器。該儀器，硬件集成了線(xiàn)掃、脈沖、階躍、溶出、阻抗譜、充放電、高頻電鍍等電化學(xué)控制與測(cè)量技術(shù)；軟件采用中文界面、Window風(fēng)格、快捷的菜單及設(shè)置、強(qiáng)大的圖形操作功能，易學(xué)易用。



◆ 儀器亮點(diǎn)
更多的電化學(xué)測(cè)量方法（47種），緊跟電化學(xué)技術(shù)的發(fā)展前沿。
更大的激勵(lì)電流及測(cè)量量程，提供電池及大面積電極體系應(yīng)用。
更寬的電位掃描范圍（±12.8V），用于有機(jī)、鈍化、超級(jí)電容等測(cè)量。
更好的測(cè)量精度、分辨率及抗*力，滿(mǎn)足痕量組分檢測(cè)及精確標(biāo)定。
更高的激勵(lì)及采集速率（10Msps），適應(yīng)高速掃描及高頻交流阻抗的需要。
更豐富的圖形量測(cè)技術(shù)和輔助數(shù)學(xué)工具，*地減輕實(shí)驗(yàn)操作者工作強(qiáng)度。
更有效的保護(hù)（極性、電壓、電流、時(shí)間、鏈路），安全進(jìn)行儲(chǔ)能電化學(xué)實(shí)驗(yàn)。
更友好的操作界面、智能檢查、頁(yè)面相關(guān)幫助，初學(xué)者無(wú)說(shuō)明書(shū)也可順利操作。



◆應(yīng)用領(lǐng)域
電化學(xué)教學(xué)                          電化學(xué)分析
電化學(xué)合成                          痕量元素檢測(cè)
電鍍工藝開(kāi)發(fā)                        電池材料研究
環(huán)境保護(hù)監(jiān)測(cè)                        納米材料研制
電解、冶金、制藥                    生物電化學(xué)傳感器
電化學(xué)腐蝕研究測(cè)量                  超級(jí)電容特性測(cè)試分析
電池化成及特性測(cè)試分析
 


◆電化學(xué)方法
線(xiàn)性?huà)呙璺卜↙SV                   線(xiàn)性?huà)呙枞艹龇卜?br />線(xiàn)性?huà)呙柩h(huán)伏安法LCV               環(huán)形掃描
階梯伏安法SV                        階梯溶出伏安法
階梯循環(huán)伏安法SCV                   方波伏安法SWV
方波溶出伏安法                      方波循環(huán)伏安法SWCV
差示脈沖伏安法DPV                   差示脈沖溶出伏安法
常規(guī)脈沖伏安法NPV                   差示常規(guī)脈沖伏安法DNPV
單電位階躍計(jì)時(shí)電流法                單電位階躍計(jì)時(shí)電量法
多電位階躍計(jì)時(shí)電流法                多電位階躍計(jì)時(shí)電量法
恒電位電解I-T曲線(xiàn)                   恒電位電解Q-T曲線(xiàn)
恒電位溶出I-T曲線(xiàn)                   恒電位溶出Q-T曲線(xiàn)
開(kāi)路電位E-T曲線(xiàn)                     電位溶出E-T曲線(xiàn)
單電流階躍計(jì)時(shí)電位法                多電流階躍計(jì)時(shí)電位法
控制電流E-T曲線(xiàn)                     交流伏安法
交流溶出伏安法                      交流循環(huán)伏安法
塔菲爾圖Tafel                       交流阻抗
電池恒流充電                        電池恒流放電
電池恒流循環(huán)充放電                  電池全容量分段充電
電池全容量分段放電                  脈沖電鍍法
電鍍電位監(jiān)測(cè)                        氯離子濃度監(jiān)測(cè)
宏電池電流監(jiān)測(cè)                      半電池恒流陽(yáng)極極化
半電池恒流陰極極化                  半電池恒流循環(huán)極化
微分電容-電位                       交流阻抗-電位
交流阻抗-時(shí)間                       電偶腐蝕
宏方法（提供用戶(hù)自編腳本的電化學(xué)方法組合運(yùn)行）
 


◆主要技術(shù)指標(biāo)
儀器架構(gòu)                            恒電位儀、恒電流儀、交流阻抗
CVzui小電位增量                      0.0000125V
電位掃描范圍                        ±12.8V                                    
槽壓                                ±15V                                
電位測(cè)量零位                        自動(dòng)校正
電位更新速率                        10MHz
參比電極輸入阻抗//電容              >10¹³Ω// <10pF                        
電位測(cè)量低通濾波器                  自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置
電位上升時(shí)間                        <0.000001S
掃描速度                            0.000001V/S～20000V/S            
zui大恒電流輸出                      ±0.5A
電流測(cè)量分辨率                      5fA                                           
電流測(cè)量零位                        自動(dòng)校正
電流測(cè)量量程                        0.000000005A～0.5A（共24檔）
放大倍數(shù)                            5×10×100                               
電流測(cè)量zui高靈敏度                  1×10^-12A/V
電流測(cè)量低通濾波器                  自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置
輸入偏置電流                        <5pA
脈沖寬度                            0.00005S～64S
正弦波幅度                          0.001V～3.2V
高速ADC                             18bit@1Msps
阻抗譜頻率                          0.00001Hz～139000Hz（共10個(gè)頻段）
電解池通氮攪拌控制輸出              二路開(kāi)關(guān)量+5V/10mA
zui大數(shù)據(jù)長(zhǎng)度                        1000000點(diǎn)
儲(chǔ)能電化學(xué)測(cè)量保護(hù)模式              極性、電壓、電流、時(shí)間、鏈路
儀器尺寸                            36×30×14（立方厘米）
儀器重量                            8kg
 

◆ RST系列電化學(xué)工作站選型表