納米膠體磨,德國膠體磨,膠體磨是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

膠體磨的粉碎效果

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素： 

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

膠體磨分散臥式膠體磨和立式膠體磨  

臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長，容易造成軸的偏心，運(yùn)轉(zhuǎn)不正常，需要專業(yè)的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸。

 從結(jié)構(gòu)看，立式是通過皮帶傳動，速度可以比電機(jī)增加3-5倍，所以研磨的效果比臥式膠體磨的效果好。我們的CM2000系列的膠體磨得zui高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM，而普通的guo產(chǎn)臥式只有3000RPM。

所以只有立式膠體磨才能叫納米膠體磨

的運(yùn)用

鋰電池正負(fù)極漿料的超細(xì)分散   電路板基材漿料粉液超細(xì)分散

高粘度物料粉液超細(xì)混合分散    納米材料團(tuán)聚物超細(xì)解聚分散

的型號包括CMS2000,CMSD2000,CMOD2000 

ru 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

,德國制造