EMC-NANO-UV 紫外/可見分光光度計
- 公司名稱 北京賽美思儀器設(shè)備有限公司
- 品牌 EMCLAB/德國
- 型號 EMC-NANO-UV
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/2/12 9:06:54
- 訪問次數(shù) 1776
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恒溫水浴、油浴、中試反應(yīng)釜控溫設(shè)備、反應(yīng)釜全封閉控溫系統(tǒng)；無油隔膜泵、油封旋葉泵、雜交泵、壓力表、泵系統(tǒng)及真空控制器;磁力攪拌器、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、頂置攪拌;超低溫反應(yīng)釜、玻璃高壓反應(yīng)釜、短程蒸餾設(shè)備；平行合成儀;反應(yīng)釜；真空乳化儀、研磨機等。
| 價格區(qū)間 | 面議 | 接收器類 | CMOS |
|---|---|---|---|
| 儀器結(jié)構(gòu) | 單光束 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥 |
| 自動程度 | 自動波長 |
紫外/可見分光光度計 儀器特點：
EMC-NANO-UV
-樣品體積為 0.2~2.0µl的新型NANO比色皿 +10x10 mm比色皿托架
-簡單易用
-水平光路 - 無能量損耗
紫外/可見分光光度計 EMC-NANO-UV 詳細(xì)參數(shù)：
Wavelength Range：190-1100 nm
Spectral Bandwidth：4 nm
Optical System：Single Beam, grating 1200 lines/mm
Wavelength Accuracy：±0.5 nm
Wavelength Repeatability：0.3 nm
Photometric Accuracy：≤±0.5 % T or ±0.004A@1A
Photometric Range：0-200 % T, -0.3 - 3A, 0-9999 Conc.
Scan Speed：Hi, MED, LOW – MAX: 3000nm/min
Stray Light：0.05 % T@220, 340 nm
Stability：±0.002A/h@500 nm
Baseline Flatness：±0.002A (200-1000 nm)
Noise：0.0005A@500 nm
Detector：Silicone Photodiode
Display：LCD 320*240
Central beam height：15 mm
Flip Cell Holder：0.2~2.5 μl and cuvette 10 mm path length
Light Source：Tungsten & Deuterium lamp
Power Requirement：AC 110/220V 50/60 Hz
Dimensions：(LxH) 490 x 370 x 220 mm
Weight：14kg
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