TMC CleanBench隔振桌 森泉光電

TMC的CleanBench產(chǎn)品是我們工業(yè)標準63系列振動隔離實驗桌的新一代產(chǎn)品。CleanBench綜合了zhuan利設計的新改進型桌面和氣浮振動隔離系統(tǒng)的諸多優(yōu)點。CleanBench更加穩(wěn)定，更加符合人體工學，優(yōu)化了螺紋導入，并且設計更加緊湊簡潔。TMC工業(yè)標準振動隔離實驗桌的各項性能在整個行業(yè)上占據(jù)了地位，在包括原子力顯微鏡、共聚焦顯微鏡等的應用中的表現(xiàn)都很理想。

特點&優(yōu)勢

獨te的新型桌面設計(zhuan利設計)

將TMC的CleanTo,p不銹鋼蜂窩技術(shù)和超堅固、高阻尼以及層狀的平臺設計相結(jié)合。

尤其對于面積小的桌子來說更穩(wěn)定。小剖面以及高密度臺面減小了質(zhì)心不穩(wěn)定，即使在頭重腳輕的情況下，也能確保其固有的穩(wěn)定性。

使用導引線以將螺桿和螺紋孔對齊，螺紋是帶斜面的，使安裝更加容易。

通過*大化的減小桌面的厚度來為坐著的用戶提供優(yōu)化的人類工程學設計。其他品牌的設計要么提供了100mm(4in)的頂部厚度的設計，不方便將膝蓋和手肘分開，要么提供50mm(2in)厚的蜂窩桌面，犧牲了必yao的質(zhì)量，從而導致沒有足夠的重量來提供有xiao的振動隔離，尤其是對于小型的桌子。

基本參數(shù)

隔振系統(tǒng)固有頻率

      高頻輸入；垂直方向=1.2 Hz,

                       水平方向=1.0 Hz

      低頻輸入：垂直方向=1.5-2.0 Hz,

                       水平方向=1.2-1.7 Hz

隔振效率@5HZ

      垂直方向=70-85 %

      水平方向=75-90%

隔振效率@10Hz

      垂直方向=90-97%

      水平方向=90-97%

推薦負載能力：160 kg

空壓機要求：80 psi氮氣或空氣

整體材料：不銹鋼臺面，

                黑色氧化處理中等材料框架

船運重量：272 kg

高度控制閥精度：

      可重復性標準閥：

      +/-0.05英寸(1.3 mm)

      精密閥：+/-0.005英寸(0.13 mm)

尺寸

注意：所有的CleanBench桌面的尺寸規(guī)格都是公制，包括英美制度量單位和米制度量單位的孔的模型版本。米制度量單位的版本從頂部的邊緣到第yi行孔有12.5mm(0.5in)的邊框，因此英美制度量單位的為稍微大于0.5in(12.5mm)。

TMC CleanBench隔振桌 森泉光電

CleanBench性能

結(jié)構(gòu)化阻尼決定了共振桌面振動衰退的速度快慢。*簡單的測量阻尼的方法是用錘子敲擊桌面然后用加速計和示波器或者光譜分析儀來測量衰減。順應性曲線的共振峰值的高度同樣可以測量阻尼。

順應性是桌面動態(tài)硬度的相互性測量指標，使用校準錘向桌面施加一個可測量的力，并且用加速度計測量合成加速度(或位移)即可獲得順應性曲線。順應性是位移和用頻率表示的力的比值。

CleanBench桌面的選擇

TMC專有的光滑“層壓桌面”結(jié)構(gòu)對于小型隔振桌是理想的桌面。綜合了鋼制夾層和磁心剛性環(huán)氧樹脂材料的無縫、圓形邊緣的不銹鋼外殼的50毫米厚平臺，對于不需要網(wǎng)格螺紋孔的用戶是理想的選擇。但對于希望使用網(wǎng)格用于插銷固定負載或定位儀器的用戶不得不接受“縮小比例”的鋼制蜂巢桌面結(jié)構(gòu)。提供網(wǎng)格孔的桌面有些笨重，提高了 you 效 載荷的重心，降低穩(wěn)定性，對于坐著的用戶也不是很好的符合 ren,體,gong,程 學的設計。CleanBench突破性的提供了TMC的疊層設計版本，這個螺紋孔網(wǎng)格設計被要求不能影響產(chǎn)品性能。新型的平臺以易于清潔的不銹鋼外殼提供了*的阻尼、剛度和平坦度。*的核心橫截面使此設計可以提供光滑的平臺面或螺紋孔桌面。

Gimbal Piston優(yōu)勢

所有CleanBench平臺都配備TMC的Gimbal Piston氣浮隔振支腿，這是標準功能。Gimbal Piston在并行測試中一直具有超過其他氣浮隔離器的性能。它在所有軸上都提供了杰出的低頻隔振并且即使輸入激勵水平極低時也可以保持其性能。專有的阻尼技術(shù)使Gimbal Piston支撐相對頭重腳輕的負載時也可保持穩(wěn)定，并迅速 xiao 除 隔振平臺上的干擾。

附件

實驗桌以及附件選型

應用案例

森泉為您的科研事業(yè)添磚加瓦：

激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設備與系統(tǒng)等等

探測器：光電探測器、單光子計數(shù)器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等

定位與加工：納米定位系統(tǒng)、微納運動系統(tǒng)、多維位移臺、旋轉(zhuǎn)臺、微型操作器等等

光源：半導體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等

光機械件：用于光路系統(tǒng)搭建的 gao 品 zhi 無應力光機械件，如光學調(diào)整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等

光學平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等

光學y件：各類晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、tou射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等

染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等