應用工藝：

•改善表面親水性

•表面清洗

•準備薄膜沉積

•表面處理

•紫外固化

•表面滅菌消毒

•去除表面單分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探針

•清洗光學元件

可清洗的基材示例：

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•鎳

•鋁

•砷化鎵

•礬土

•玻璃

•不銹鋼

可去除的污染物示例：

•光刻膠

•樹脂

•人體皮膚油脂

•清洗溶劑的殘留物

•塑料/硅片表面油漬

•助焊劑

產(chǎn)品特點：

•成本低；

•120x120mm樣品臺；

•Z大處理樣品高度為14mm；

•抽屜式樣品臺，簡單方便；                                

•樣品臺自安全聯(lián)鎖，防止對人身傷害；    

•LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”；

•60分鐘計時器；

•高強度紫外線燈源；

•可控溫的樣品臺；

•樣品清洗無需溶劑；

•超凈表面。

下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響，以改善表面親水性。

水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上，經(jīng)過紫外臭氧清洗處理前（左圖）和處理后（右圖）的效果對比。