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微型磁控濺射鍍膜設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2025/2/27 13:44:41
  • 訪問次數(shù) 2182
產(chǎn)品標簽

微型磁控濺射

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)??祁TO(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,在中國上海設(shè)立了分公司,在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應(yīng),72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務(wù)!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)

產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,綜合

微型磁控濺射鍍膜設(shè)備微型磁控濺射
這款來自美國的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價比,可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。
微型磁控濺射鍍膜設(shè)備特點
小容量,快速重復(fù)工作流程;
活性沉積區(qū)域最大為200nm(8英寸)直徑;
適應(yīng)多種襯底;
可配備多個濺射源(最多至4個);
連續(xù)沉積模式或聯(lián)合沉積模式;
不同工作氣體控制;
共焦陰極分布;
50mm,75mm, 或100mm磁控濺射源;
內(nèi)置陰極角傾斜;
陰極擋板;
直流,脈沖,高頻(HG或MF)電源;
襯底,加熱,冷卻,或者RF/DC偏壓;
可添加預(yù)抽室。

這款來自美國的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價比,可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。


參考:

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。

優(yōu)勢特點

常用的制備磁性薄膜的方法是磁控濺射法。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時間,便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。







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