普林斯頓 VersaSTAT4電化學(xué)工作站
- 公司名稱 廣州貝拓科學(xué)技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/7/18 12:27:00
- 訪問(wèn)次數(shù) 3875
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廣州貝拓科學(xué)技術(shù)有限公司成立于2010年8月，是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，廣州科技小巨人企業(yè)，并在廣東股權(quán)交易中心成功掛牌（股權(quán)代碼：892081），通過(guò)ISO9001-2015質(zhì)量體系認(rèn)證和知識(shí)產(chǎn)權(quán)貫標(biāo)認(rèn)定體系，擁有近30項(xiàng)國(guó)家磚利。貝拓科學(xué)一直從事光譜分析儀器領(lǐng)域，自主研發(fā)儀器有光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x，拉曼光譜儀，表界面張力儀，白光干涉膜厚分析儀，陣列式紫外可見分光光度計(jì)，積分球式透反射率測(cè)試儀等。具備光學(xué)設(shè)計(jì)、機(jī)械設(shè)計(jì)、軟件編寫和算法編寫核心能力，和中山大學(xué)、廣州大學(xué)、華南師范大學(xué)有緊密的合作關(guān)系，并且是廣州大學(xué)物理與光電學(xué)院的長(zhǎng)期實(shí)習(xí)基地。貝拓科學(xué)所研發(fā)生產(chǎn)的產(chǎn)品定位在國(guó)內(nèi)高水平，未來(lái)面向市場(chǎng)。
貝拓科學(xué)陪伴著科學(xué)家一起探索未知事件，“Touch the future”作為我們的口號(hào)，貝拓科學(xué)尊重以嚴(yán)謹(jǐn)?shù)目茖W(xué)理論為指導(dǎo)，為科學(xué)家提供有力的科研工具。我們默默堅(jiān)持做前沿分析儀器的搬運(yùn)工，陪伴科學(xué)家不斷成長(zhǎng)。我們很榮幸作為一些有儀器生產(chǎn)廠家，例如：日本Hitachi，德國(guó)WITec,德國(guó)Bruker，英國(guó)OXFORD，美國(guó)ThermoFisher,Ametek旗下輸力強(qiáng)和普林斯頓,以及中國(guó)臺(tái)灣OtO等大電子儀器廠家的代理，一起為中國(guó)的科學(xué)家提供專業(yè)的服務(wù)。
我們的宗旨是為科學(xué)學(xué)提供更專業(yè)，更貼心的服務(wù)。
我們的優(yōu)勢(shì)和專注點(diǎn)集中于材料測(cè)試方面，為了普惠科研工作者，我們還提供測(cè)試服務(wù)，其中包括材料的結(jié)構(gòu)、元素分布、表面特征、物理化學(xué)特性以及光學(xué)、電學(xué)特性的分析。
材料分析領(lǐng)域代理品牌：
OXFORD（牛津）、FEI（賽默飛）、KeySight(前安捷倫納米部)、STOE、AMETEK(阿美特克)、TESCAN(泰思肯)、LEICA、KRUSS、BEL、HITACHI（日立）、OTO（中國(guó)臺(tái)灣超微光學(xué)）、WITec（威泰克）、BRUKER（布魯克）、普析、徠卡、本原納米等。
接觸角測(cè)量?jī)x、在線測(cè)厚儀、光學(xué)膜厚儀、紅外光譜儀、拉曼成像光譜儀、拉曼電鏡、低溫恒溫器、掃描探針顯微鏡/原子力、納米壓痕劃痕儀、橢偏儀、熱分析、差示掃描熱儀
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 電化學(xué)工作站 |
普林斯頓 VersaSTAT4電化學(xué)工作站
概要
VersaSTAT 4 電化學(xué)工作站建立在VersaSTAT 3電化學(xué)工作站的全新杰出設(shè)計(jì)之上，提供您更加高速，靈活和高精度的性能，滿足您一系列的高級(jí)電化學(xué)應(yīng)用。標(biāo)準(zhǔn)最大電流增強(qiáng)為1A，同時(shí)提供20A的電流放大器選項(xiàng)，使得你的研究從初期的的電池研發(fā)，燃料電池研究，到最終成品電池的充放電實(shí)驗(yàn)都能在此臺(tái)儀器上實(shí)現(xiàn)，同時(shí)也面對(duì)下一代新型電池研究的挑戰(zhàn)。 fA分辨率及pA精度的低電流設(shè)計(jì)，使得低電流應(yīng)用研究成為可能，例如傳感器，腐蝕，抑制劑，以及結(jié)合可選的FRA進(jìn)行涂層技術(shù)研究。附加的模擬濾噪，給電流測(cè)試添加帶寬濾波，給電容性電解池增加穩(wěn)定性，使VersaSTAT 4成為腐蝕應(yīng)用研究的更加選擇。VersaSTAT 4 以其在VersaSTAT系列中最杰出的性能，滿足您各種研究應(yīng)用需求。
普林斯頓 VersaSTAT4電化學(xué)工作站
特征
增強(qiáng)的fA分辨率及pA精度的低電流性能
高達(dá) 1A 的標(biāo)配電流輸出，同時(shí)提供多種電流放大器選項(xiàng)2A-20A
2µs時(shí)間分辨率，確?？焖贁?shù)據(jù)采集及掃描速度
附加的電流及電壓模擬濾噪功能，提供更杰出性噪比的測(cè)量
內(nèi)建FRA頻響分析儀（可選），支持電化學(xué)阻抗測(cè)試，頻率范圍10μHz－1M Hz
標(biāo)配 VersaStudio 軟件
技術(shù)參數(shù)
| 數(shù)據(jù)采集 | |
| 數(shù)據(jù)采集 | 3 x 16 bit 500k 樣品/秒 數(shù)模轉(zhuǎn)換 同步電位/電流/輔助 |
| 時(shí)間分辨率 | 2µs (500k 樣品/秒) |
| 自動(dòng)噪音濾波 | 可用 |
| 功率放大器 | |
| 輸出電壓 | ±12V |
| 輸出電流 | ±1A (標(biāo)配) ±2A (內(nèi)置選配) |
| 恒電位帶寬 | 1 MHz |
| 穩(wěn)定性設(shè)定 | 高速/高穩(wěn)定性 (可根據(jù)具體試驗(yàn)設(shè)置) |
| 切換速度 | >8V/µs |
| 上升時(shí)間 (-1.0V to +1.0V) | <350 ns |
| 電位控制 (恒電位模式) | |
| 施加電位范圍 | ±10V |
| 施加電位分辨率 | for ±10mV signal = 300nV
for ±100mV signal = 3µV for ±1V signal = 30µV for ±10V signal = 300µV |
| 施加電位精度 | ±0.2% of value ±2mV |
| 最大掃速 | 5000 Vs-1 (50 mV step) |
| 最大掃速范圍及精度 | ±10V / 300µV |
| 電流控制 (恒電流模式) | |
| 施加電流范圍 | ±1A (標(biāo)配), ±2A (內(nèi)置選配) |
| 施加電流分辨率 | ±1/32,000 x 全量程 |
| 施加電流精度 | ±0.2% of reading, ±0.2% of range |
| 最大電流量程/分辨率 | ±1A / 60µA |
| 最小電流量程/分辨率 | ±4nA / 120fA |
| 差分靜電計(jì) | |
| 最大輸入范圍 | ±10V |
| 帶寬 | ≥10MHz (3dB) |
| 輸入阻抗 | ≥1012 Ω in parallel with ≤5pF (typical) |
| 漏電流 | ≤5pA at less than 25°C |
| CMRR | 60 dB at 100kHz (typical) |
| 電位測(cè)量 | |
| 電位測(cè)量范圍 | ±10V |
| 最小電位分辨率 | 6µV |
| 電位精度 | ±0.2% of reading ±2mV |
| 電流測(cè)量 | |
| 電流測(cè)量范圍 | 自動(dòng)量程 (10 量程)
1A to 4 nA (8 量程) 2A to 4nA (內(nèi)置選配) |
| 電流分辨率 | 120fA (4nA 量程) |
| 電流精度 (DC) | 20nA to 2A: ±0.2% of reading, ±0.2% of range 4nA: <0.5% ±20pA |
| 帶寬 | 1MHz (signal ≥2mA range typical) |
| 帶寬噪聲濾波功能 | 有, 5檔 |
| 阻抗模塊 (EIS) 選件 | |
| 模式 | 電位控制/電流控制 |
| 頻率范圍 | 10µHz to 1MHz |
| 最小交流電壓幅值 | 0.1mV RMS |
| 掃描方式 | 線性 or 對(duì)數(shù) |
| iR 補(bǔ)償 | |
| 正反饋 | 有 |
| 動(dòng)態(tài) iR 補(bǔ)償 | 有 |
| 接口 (標(biāo)配) | |
| 數(shù)字輸入/數(shù)字輸出 | 5 TTL logic 輸出, 2 TTL logic 輸入 |
| 輔助電壓輸入 | 同步測(cè)量電壓及電流; ±10V 范圍, 輸入阻抗10kΩ; Filter: off, 1kHz, 200kHz; BNC connector |
| 數(shù)模轉(zhuǎn)換 電壓輸出 (標(biāo)配) | ±10V 范圍, 輸出阻抗1kΩ; BNC connector (用于攪拌器，旋轉(zhuǎn)盤電極等) |
| 計(jì)算機(jī) / 軟件 | |
| 通訊接口 | USB模式 |
| 操作系統(tǒng) | Windows XP Professional (preferred) or Windows 2000 / VISTA / Windows 7 |
| PC 配置 (至少需求) | Pentium 4 (1GHz) / 1GB memory 高數(shù)據(jù)采集需要大內(nèi)存 |
| 軟件 | VersaStudio |
| 常規(guī) | |
| 電壓 | 250VA Max. Voltage range 90Vac to 250Vac, 50-60Hz |
| 尺寸（長(zhǎng)X寬X高） | 16¼” x 15¼” x 3½” 421 x 387 x 89mm |
| 重量 | 10lbs, 4.5kgs |
| 使用環(huán)境溫度 | 10°C to 50°C |
| 濕度 | Maximum 80% non-condensing |
| 理想溫度 | 25°C |
| Dummy Cell 模擬電解池 | 內(nèi)置 (DC only) |
| CE 認(rèn)證 | 通過(guò) |
選件
| 2A 大電流選項(xiàng) | 型號(hào) |
| ±2A 大電流選項(xiàng)，支持化學(xué)電池、燃料電池及電鍍應(yīng)用 | 2A/VersaSTAT4 |
| FRA 頻率響應(yīng)選項(xiàng) | |
| 內(nèi)置頻率響應(yīng)選項(xiàng)，滿足電化學(xué)阻抗分析，頻率范圍10µHz to 1MHz | FRA/VersaSTAT4 |
| 高級(jí)混合輸入接口Advanced Auxiliary Interface | |
| 此 AAI 選項(xiàng)，允許附加一個(gè)帶有4個(gè)A/D轉(zhuǎn)換輸入接口，使得Versastudio software 通過(guò)VersaSTAT主機(jī)獲得更多記錄數(shù)據(jù)。 | AAI/VersaSTAT4 |
| 電流放大器 | |
| 在電流放大及通常操作模式之間轉(zhuǎn)換，僅需簡(jiǎn)單的電纜連接。 | 8A/VersaSTAT4 10A/VersaSTAT4 20A/VersaSTAT4 |
| 電化學(xué)池選件 | |
| Corrosion Cell Kit 腐蝕電解池 | K0047 |
| Corrosion Flat Cell 平板電解池 | K0235 |
| Micro-Cell Kit 微電解池 | K0264 |
| Analytical Cell Kit 分析電解池 | RDE0018 |
| Tait Cell 涂層評(píng)價(jià)池 | K0307 |
| 輔助附件 | |
| 滴汞儀附件 | 303A |
| model 303A 滴汞儀附件接口 | 507 |
| 石英晶體微天平 | QCM922 |
| 旋轉(zhuǎn)盤電極 | 616 |
| 旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極 | 636 |
軟件
四種不同功能的 VersaStudio software造就四種VersaSTAT電化學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng):
VersaSTAT100 基本伏安技術(shù)
VersaSTAT200 高級(jí)電化學(xué)測(cè)試技術(shù)
VersaSTAT300 完整腐蝕測(cè)試技術(shù)
VersaSTAT400 全功能電化學(xué)綜合測(cè)試技術(shù)
*的V3－Studio軟件支持全系列V3電化學(xué)工作站，包括大電流擴(kuò)展和電流放大設(shè)備。各種系統(tǒng)綜合性的軟硬件*結(jié)合，使V3－Studio可以致力于各個(gè)領(lǐng)域中的研究，并且通過(guò)不同的預(yù)算不斷升級(jí)。
軟件提供全面、廣泛的電化學(xué)測(cè)試方法，它不但功能強(qiáng)大，而且便于新手學(xué)習(xí)使用。
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