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杭州市農(nóng)村飲用水消毒設(shè)備工藝流程

1.一種電子工業(yè)含氟含氨氮廢水處理用反滲透膜裝置的清洗方法，所述反滲透膜裝置包括*段反滲透膜單元及與所述*段反滲透膜單元的濃水出水口相連的第二段反滲透膜單元，其特征在于：對(duì)所述*段反滲透膜單元和第二段反滲透膜單元進(jìn)行獨(dú)立清洗，且采用不同的清洗液，其中采用能夠除去有機(jī)物、微生物和膠體的清洗液對(duì)*段反滲透膜單元進(jìn)行清洗;采用能夠除去有機(jī)物、微生物、膠體、無(wú)機(jī)鹽結(jié)晶以及各種形式的硅化物的清洗液對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗。

　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于：采用堿性或酸性洗液對(duì)*段反滲透膜進(jìn)行清洗。

　　3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗方法，其特征在于：采用質(zhì)量濃度0.08%~1.2%的氫氧化鈉溶液和/或質(zhì)量濃度為0.1%~0.3%的鹽酸溶液對(duì)*段反滲透膜單元進(jìn)行清洗。

　　4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于：采用添加有分散劑和/或還原劑的堿性溶液或酸性溶液對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗。

　　5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清洗方法，其特征在于：所述的分散劑為Na4-EDTA和/或NaSDS;所述的還原劑為NaHSO3和/或Na2S2O3。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的清洗方法，其特征在于：對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗的清洗液中含有:

　　a)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.08%~1.2%的氫氧化鈉或質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%~0.3%的鹽酸;和選自下述b)和c)中的一種：

　　b)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.8%~1.2%的Na4-EDTA和/或質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.02%~0.03%的NaSDS;

　　c)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.8%~1.2%的NaHSO3和/或Na2S2O3。

　　7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于：進(jìn)行清洗時(shí)，將清洗液盛裝于清洗罐中，利用管道和高壓泵使清洗液經(jīng)*段反滲透膜單元或第二段反滲透膜單元的進(jìn)水口通入，對(duì)相應(yīng)的反滲透膜單元的內(nèi)部進(jìn)行清洗后，再?gòu)南鄳?yīng)的反滲透膜單元的濃水出口排出并重新回到清洗罐，循環(huán)清洗多次。

　　8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清洗方法，其特征在于：對(duì)*段反滲透膜單元進(jìn)行清洗時(shí)，控制清洗液的溫度為20~30℃，流量為每支膜殼35~45GPM，清洗泵的壓力為0.5~4.0Bar。

　　9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清洗方法，其特征在于：對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗時(shí)，控制清洗液的溫度為20~30℃，流量為每支膜殼35~45GPM，清洗泵的壓力為0.5~4.0Bar。

　　10.根據(jù)權(quán)利要求7或8或9所述的清洗方法，其特征在于：采用一個(gè)清洗罐，分別通過(guò)*連接管路和第二連接管路將所述清洗罐與所述的*段反滲透膜單元的進(jìn)水口和第二段反滲透膜單元的進(jìn)水口連通，對(duì)*段反滲透膜單元和第二段反滲透膜單元的清洗一先一后進(jìn)行，清洗其中一個(gè)時(shí)，將另一個(gè)對(duì)應(yīng)的連接管路關(guān)閉，并加入相應(yīng)的清洗液，清洗完一個(gè)，清洗另一個(gè)時(shí)，將前面的清洗液排盡，再加入對(duì)應(yīng)的清洗液進(jìn)行清洗。

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