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Nisene等離子芯片開封機(jī)PlasmaEtch

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似空科學(xué)儀器(上海)有限公司是一家儀器設(shè)備的經(jīng)銷商。我們致力于為中國(guó)制造業(yè)和研發(fā)機(jī)構(gòu)提供高精度、符合人體工學(xué)設(shè)計(jì)的儀器設(shè)備。我們也夢(mèng)想有朝一日,能夠充分掌握市場(chǎng)需求,深刻理解儀器設(shè)備的技術(shù)原理,聚集一批有激情、有理想、有技術(shù)的人,為中國(guó)的制造業(yè)升級(jí)以及中國(guó)科研走向世界,提供自有知識(shí)產(chǎn)權(quán)的先進(jìn)儀器設(shè)備!
儀器設(shè)備發(fā)展的是探測(cè)手段和傳感器不對(duì)被測(cè)目標(biāo)產(chǎn)生任何干擾,企業(yè)管理的是一切以市場(chǎng)為核心,不以自我的意愿抗拒市場(chǎng)的趨勢(shì),代替客戶的喜好,于是我們?nèi)∶?ldquo;似空”,希望以忘我的精神服務(wù)客戶。

 

失效分析,芯片開封,表面觀測(cè),金相研磨,光學(xué)及視頻顯微鏡,超聲波檢測(cè),X射線檢測(cè),激光微納加工等

價(jià)格區(qū)間 面議 儀器種類 微流控芯片系統(tǒng)
應(yīng)用領(lǐng)域 電子 Nisene等離子芯片開封機(jī) PlasmaEtch

當(dāng)今世界越來越關(guān)注生態(tài)友好,半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝的持續(xù)改進(jìn)則進(jìn)一步導(dǎo)致了集成電路內(nèi)部組件尺寸越來越小,也變得越來越靈敏和脆弱。由此導(dǎo)致了芯片失效分析的一個(gè)特定挑戰(zhàn):如何將樣品封裝去除卻不會(huì)導(dǎo)致功能失效? Nisene公司xin一代的芯片開封系統(tǒng)為半導(dǎo)體生產(chǎn)制造技術(shù)和失效分析之間的鴻溝搭建了一座橋梁:等離子芯片開封機(jī)—PlasmaEtch Nisene科技集團(tuán)有限公司從事集成電路失效分析的自動(dòng)開封裝置研發(fā)超過40年,擁有多項(xiàng)電化學(xué)及微波等離子開封機(jī)技術(shù)的專li。

 

  • 產(chǎn)品介紹

PlasmaEtch Process - 美國(guó)專li9,548,227 B2 - 使用等離子體放電管的微波誘導(dǎo)等離子體。 

微波誘導(dǎo)式等離子芯片開封系統(tǒng) ---- PlasmaEtch

無論是傳統(tǒng)的金線樣品,還是樣品都采用銅線或銀線,PlasmaEtch都能提供安全可靠的蝕刻。


             As the world moves toward more eco-friendly processes and the semiconductor manufacturing industry continues to make smaller parts with sensitive internal components, failure analysts are presented with a unique challenge: how do you etch these samples? Nisene Technology Group has bridged the gap between semiconductor manufacturing technology and failure analysis with its latest decapsulation system: the PlasmaEtch.


工作原理:

             The PlasmaEtch decapsulation system is a revolutionary patent-pending gas-based semiconductor etching system. Employing a never-before-seen application of microwaved gases inciting chemical radicals for isotropic etching, the PlasmaEtch is the greenest and most cost-effective etching solution available. The PlasmaEtch can etch most sample sizes, encapsulant types, and wire bond types. Whether it’s a more traditional gold wire sample, or if the sample features copper or silver wires, the PlasmaEtch delivers a safe and reliable etch.

PlasmaEtch創(chuàng)新點(diǎn):

Afterburner Downstream Focused Plasma Etching(延時(shí)激發(fā)下行聚焦離子蝕刻)
Mass Flow Controlling for All Gases(所有氣體流量可控)
No Microwave Radiation Exposure to Samples During Etch Process(無微波輻射)
Low Temperature Etching(低溫蝕刻)
Isotropic Etching(等向性蝕刻)

          Unlike typical and less sophisticated plasma decap systems that take many hours or even days to get to the surface of the die, the PlasmaEtch can clear the encapsulant of most package types and reveal the complete die surface and wire sweep in a matter of a couple hours. Chemical-free decapsulation has never been so effective.



主要特色(Highlights):

Highly Customizable Etch Recipes(高度可定制的蝕刻配方)PlasmaEtch Product Shot
Etches a Wide Variety of Package Types(可蝕刻各種各樣的封裝類型)
Completely Chemical-free Decap(*非化學(xué)方式蝕刻)
Eco-friendly(生態(tài)友好環(huán)保
Touchscreen Interface(觸控屏)
PC/Windows-based GUI(基于PC / WindowsGUI)
The Only Solution for Silver Wires(銀線的唯1解決方案)
Etches Samples with All Wire Types(可蝕刻所有引線類型的樣品)
Small Footprint Suited for Tabletop(桌上型緊湊尺寸機(jī)柜)

 

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