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eLINE Plus 多功能電子束曝光機(jī) eLINE Plus

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌
  • 型號 eLINE Plus
  • 產(chǎn)地 美國
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/9/25 12:08:57
  • 訪問次數(shù) 2314

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公司自成立以來就一直專注于半導(dǎo)體、微組裝和電子裝配等領(lǐng)域的設(shè)備集成和技術(shù)服務(wù);目前公司擁有一支在半導(dǎo)體制造、微組裝及電子裝配等領(lǐng)域經(jīng)驗豐富的專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊,專業(yè)服務(wù)于混合電路、光電模塊、MEMS、先進(jìn)封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導(dǎo)體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領(lǐng)域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設(shè)備,還能根據(jù)客戶的實際生產(chǎn)需求制訂可行的工藝技術(shù)方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導(dǎo)體制造設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進(jìn)的設(shè)備和專業(yè)的技術(shù)服務(wù)打下了堅實基礎(chǔ)。

 

半導(dǎo)體設(shè)備,微組裝設(shè)備,LTCC設(shè)備,化工檢測設(shè)備

應(yīng)用領(lǐng)域 電子

多功能電子束曝光系統(tǒng)

 

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)

超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統(tǒng)

納米加工領(lǐng)域的瑞士軍dao

多用途的納米光刻系統(tǒng)

eLINE Plus被廣泛用于大學(xué)和研究中心,該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇,滿足用戶對電子束光刻機(jī)多功能性的要求。

除具有專業(yè)的電子束光刻及成像功能,eLINE Plus還*集成了納米操縱設(shè)備,如納米探針、用于聚焦電子束誘導(dǎo)過程的氣體注入系統(tǒng)等各種多功能選件,這使得eLINE Plus成為世界上*的、用途廣泛的電子束光刻系統(tǒng)。

納米工程、納米操縱,及聚焦電子束誘導(dǎo)過程

  1. 良好的熱場發(fā)射電子光學(xué)柱,可得到世jie領(lǐng)xian的小束斑尺寸
  2. 開放的可升級的平臺理念
  3. 廣泛的納米加工工藝
  4. 多種探測器,可靈活地實現(xiàn)對準(zhǔn)標(biāo)記識別、成像,及材料分析方面的應(yīng)用
  5. *的無寫場拼接的直寫模式(traxx /periodixx)
  6. Raith NanoSuite軟件: 集所有模塊于一體的綜合軟件界面

可擴(kuò)展的科研工具理念

eLINE Plus具有模塊可擴(kuò)展的科研工具理念,用戶可任意時間升級各種模塊,使該系統(tǒng)適用于納米研究中熱門的研究方向。eLINE Plus從傳統(tǒng)的電子束應(yīng)用領(lǐng)域,擴(kuò)展成為多功能的系統(tǒng),打開了跨學(xué)科研究的大門。

eLINE Plus具有世jie領(lǐng)xian的小束斑尺寸(1.6nm),在前沿的高分辨納米加工中,不論是納米曝光還是其他聚焦電子束誘導(dǎo)過程中都展現(xiàn)出的優(yōu)異性能。

 

eLINE Plus 納米曝光應(yīng)用

  • HSQ膠上制作亞5nm線條

 

  • 高密度器件:1kB交叉型阻變式存儲器

 

  • 通過鉆蝕工藝獲得光子晶體隔膜器件
  • 金屬橫向自旋閥

 

  • 納米光柵實現(xiàn)精確的神經(jīng)突導(dǎo)航功能

eLINE Plus 納米工程應(yīng)用

  • 采用電子束誘導(dǎo)沉積功能生長金電極,在金電極上沉積懸空的Pt納米線,并采用探針進(jìn)行納米線探測

 

  • 電子束誘導(dǎo)沉積結(jié)構(gòu),采用輪廓儀探針進(jìn)行材料生長速率的測量

 

  • 電子束誘導(dǎo)沉積生長三維納米結(jié)構(gòu)
  • 采用能量選擇inLens背散射電子探測器探測材料對比度

eLINE Plus 產(chǎn)品詳情

主要應(yīng)用:

  • 納米級光刻
  • 納米工程
  • 納米操縱、納米探測、納米輪廓儀
  • 聚焦電子束誘導(dǎo)過程(FEBIP
  • 成像及分析

 

樣品臺:

  • 4“ 移動范圍
  • Z軸移動范圍大
  • 旋轉(zhuǎn)和傾斜功能(選配)

 

電子槍技術(shù):

  • Gemini
  • 電子
  • 30 kV
  • Inlense二次電子探測器
  • 能量選擇背散射二次電子探測器(選配)

 

*直寫模式:

  • traxx長線條無寫場拼接曝光模式
  • periodixx周期結(jié)構(gòu)無寫場拼接曝光模式

 

 



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