等離子清洗機的工藝氣體如何選擇？

等離子清洗機是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對工件進行表面處理，無論是進行清洗還是表面活化，為達到的處理效果我們會選用不同的工藝氣體，那么等離子清洗機的常用工藝氣體有哪些，又該如何選擇呢？今天就為大家分享一下相關(guān)基礎(chǔ)知識，供大家分享。

等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮氣 (Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氫氣（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbon tetrafluoride, CF4）等。

等離子清洗機的工藝氣體如何選擇？

1 氧氣

氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學的處理方式，電離后產(chǎn)生的離子體能夠?qū)Ρ砻孢M行物理轟擊，形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學反應(yīng)形成活性基團的親水表面，達到表面活化的目的；被斷鍵后的有機污染物的元素會與高活性的氧離子發(fā)生化學反應(yīng)，形成CO、CO2、H2O等分子結(jié)構(gòu)脫離表面，達到表面清洗的目的。

氧氣主要應(yīng)用于高分子材料表面活化及有機污染物去除，但不適用于易氧化的金屬表面。

真空等離子狀態(tài)下的氧等離子呈現(xiàn)淡藍色，部分放電條件下類似白色。放電環(huán)境光線比較亮，肉眼觀察時可能會出現(xiàn)看不到真空腔體內(nèi)有放電的情況。