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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>勻膠機(jī)>L20001 英國Ossila-Spin Coater

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L20001 英國Ossila-Spin Coater

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 華儀行(北京)科技有限公司
  • 品牌 Ossila/歐西拉
  • 型號(hào) L20001
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/10/25 15:35:55
  • 訪問次數(shù) 2421

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企業(yè)歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團(tuán)有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學(xué)科研院所銷售儀器設(shè)備的供應(yīng)商。

◆ 2008 年, 自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來, 先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備, 從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術(shù),自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機(jī)系列產(chǎn)品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進(jìn)入中國市場, 部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務(wù)移至中國。

◆ 2015 年,自主研發(fā)生產(chǎn)專為處理粉體樣品而設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)。

◆ 2017 年,自主研發(fā)生產(chǎn)紫外臭氧清洗機(jī)系列產(chǎn)品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發(fā)制造業(yè)務(wù)全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)研發(fā)成功。

◆ 2021 年,自主研發(fā)生產(chǎn)中試、生產(chǎn)型等離子清洗系列產(chǎn)品,完善了等離子產(chǎn)品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機(jī)、RIE 蝕刻機(jī)研發(fā)成功。


公司專注材料表面處理技術(shù):

◆ 改性(等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī))                   ◆ 去膠(等離子去膠機(jī))

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機(jī))                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī))

企業(yè)愿景:

致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

企業(yè)使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內(nèi)的所有人,同呼吸,共命運(yùn),共同成長,共同發(fā)展,共同成就夢想!


半導(dǎo)體領(lǐng)域儀器設(shè)備:等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī)等。 理化實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 5萬-10萬
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè)

英國Ossila-Spin Coater

 

Spin Coater技術(shù)性能

  • 可在手套箱和通風(fēng)廚內(nèi)使用,基座面積僅為22.5x17cm。
  • 無需真空泵、充氮?dú)?,?jié)省保養(yǎng)維護(hù)費(fèi)用。
  • 創(chuàng)新設(shè)計(jì)非真空卡盤式吸盤,基材只需放置在卡盤式旋涂托盤適當(dāng)位置,無需抽真空,就能達(dá)到較好的旋涂效果。
  • 耐酸堿防腐蝕FEP覆膜操作界面,堅(jiān)固的不銹鋼外殼,鋼化的玻璃蓋和耐酸堿防腐蝕的襯墊和聚丙烯材質(zhì)旋涂托盤,使得在各種苛刻條件下仍能保證儀器正常運(yùn)行。
  • 采用液晶顯示+按鍵操作控制界面。智能程序化控制,10個(gè)用戶自定義協(xié)議,每個(gè)協(xié)議下可設(shè)置10個(gè)程序,每個(gè)程序多50個(gè)步驟。
  • 內(nèi)置水平校準(zhǔn)裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。
  • 電磁安全開關(guān),蓋子打開卡盤停止,保證運(yùn)行安全。
  • 轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性<2%。
  • 轉(zhuǎn)速120-6000rpm。
  • 定時(shí)器1-1000秒。
  • 電源DC24V、2A, 使用100-240V 50/60Hz電源適配器。
  • 尺寸220x170x132mm。
  Spin Coater用于晶片基底材料的表面光刻膠涂覆。勻膠機(jī)由樣品臺(tái)、滴膠裝置和空心電動(dòng)機(jī)組成,其工作原理是,通過在樣品臺(tái)上產(chǎn)生負(fù)壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺(tái)上,光刻膠液滴注在基底材料的表面,通過準(zhǔn)確控制電動(dòng)機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度,以此來改變離心力的大小,同時(shí)通過控制膠液的流量來達(dá)到制備薄膜所需的厚度。

 

Spin Coater

 

  勻膠機(jī)在旋涂過程中會(huì)出現(xiàn)邊緣效應(yīng),這是由于在旋涂的過程中溶劑的揮發(fā)導(dǎo)致表面和邊界處光刻膠的濃度和黏度都增大,從而引起邊緣位置較中心位置要厚一些,因此基片邊緣需要經(jīng)過去邊處理。去邊處理包括基片正面和背面的化學(xué)去邊處理,以及基片正面的光學(xué)去邊處理。
  Spin Coater動(dòng)態(tài)滴膠是指基片在旋轉(zhuǎn)的過程中將光刻膠滴注到基片的中心位置,通常旋轉(zhuǎn)速度不宜過快( 500/min),動(dòng)態(tài)滴膠可以在保證快速地在基片表面將光刻膠鋪開的前提下,減少針孔的產(chǎn)生,也可減少光刻膠的使用量。

  • 左:普通旋涂機(jī)上有真空密封環(huán)形印跡     右:Ossila非真空式旋涂效果


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