一、概述

      SE-VM 是一款超高精度快速測量光譜橢偏儀，其采用自主研發(fā)的橢偏創(chuàng)新技術(shù)，具備 1 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù)，2 透明基底消背反技術(shù) 等技術(shù)。快速實(shí)現(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設(shè)計(jì)。

■  高精度橢偏測量解決方案；

■  超高精度、快速無損測量；

■  支持多角度、微光斑、可視化調(diào)平系統(tǒng)功能模塊靈活定制；

■  豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。

二、產(chǎn)品特點(diǎn)

■ 采用高性能進(jìn)口復(fù)合光源，光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm)，可支持?jǐn)U展紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；

■  高精度雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCrSCrA配置，實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；

■ 支持系列配置靈活，可根據(jù)不同應(yīng)用場景支持多功能模塊化定制；

■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料。

三、產(chǎn)品應(yīng)用

SE-VM廣泛應(yīng)用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)光學(xué)薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析。

可選配件

技術(shù)參數(shù)