CRESTEC 電子束光刻系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CRESTEC
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/9/25 15:27:53
- 訪問次數(shù) 1640
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 150萬-200萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池 |
電子束光刻系統(tǒng)特點
1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍
2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術
3.采用場尺寸調(diào)制技術，電子束定位分辨率（address size)可達0.0012nm
4.采用軸對稱圖形書寫技術，圖形偏角分辨率可達0.01mrad
5.應用領域廣泛，如微納器件加工，Si/GaAs
電子束光刻系統(tǒng)參數(shù)
1.小線寬：小于10nm（8nm available)
2.加速電壓：1-50kV
3.電子束直徑：小于2nm
4.套刻精度：20nm(mean+2σ)
5.拼接精度：20nm(mean+2σ)
6.加工晶圓尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)
7.描電鏡分辨率：小于2nm
產(chǎn)品介紹
納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀先進納米科技提供的電子束納米光刻（EBL）系統(tǒng)，或稱電子束直寫（EBD）、電子束爆光系統(tǒng)。型號包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小線寬可達8nm，小束斑直徑2nm，套刻 精度 20nm(mean+2σ)，拼接精度 20nm(mean+2σ)。
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