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CRESTEC 無(wú)掩膜電子束曝光機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) CRESTEC
  • 產(chǎn)地 日本
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/10/12 15:10:52
  • 訪問(wèn)次數(shù) 1719

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公司自成立以來(lái)就一直專注于半導(dǎo)體、微組裝和電子裝配等領(lǐng)域的設(shè)備集成和技術(shù)服務(wù);目前公司擁有一支在半導(dǎo)體制造、微組裝及電子裝配等領(lǐng)域經(jīng)驗(yàn)豐富的專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),專業(yè)服務(wù)于混合電路、光電模塊、MEMS、先進(jìn)封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導(dǎo)體、微波器件、功率器件、紅外探測(cè)、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領(lǐng)域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設(shè)備,還能根據(jù)客戶的實(shí)際生產(chǎn)需求制訂可行的工藝技術(shù)方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導(dǎo)體制造設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進(jìn)的設(shè)備和專業(yè)的技術(shù)服務(wù)打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

 

半導(dǎo)體設(shè)備,微組裝設(shè)備,LTCC設(shè)備,化工檢測(cè)設(shè)備

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 150萬(wàn)-200萬(wàn)
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池

電子束光刻系統(tǒng)EBL (E-Beam Lithography)
電子束直寫(xiě)系統(tǒng) 、 電子束曝光系統(tǒng)
CABL-9000C series

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)納米科技提供 的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(xiě)(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。

型號(hào)包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LBCABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小線寬可達(dá)8nm,小束斑直徑2nm,套刻精度 20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)

技術(shù)參數(shù):
1.小線寬:小于10nm8nm available)
2.加速電壓:5-50kV
3.電子束直徑:小于2nm
4.套刻精度:20nm(mean+2σ)
5.拼接精度:20nm(mean+2σ)
6.加工晶圓尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option)
7.描電鏡分辨率:小于2nm

主要特點(diǎn):
1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍
2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù)
3.采用場(chǎng)尺寸調(diào)制技術(shù),電子束定位分辨率(address size)可達(dá)0.0012nm
4.采用軸對(duì)稱圖形書(shū)寫(xiě)技術(shù),圖形偏角分辨率可達(dá)0.01mrad
5.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,如微納器件加工,Si/GaAs 兼容工藝,研究用掩膜制造,納 米加工(例如單電子器件、量子器件制作等),高頻電子器件中的混合光刻(Mix & Match),圖形線寬和圖形位移測(cè)量等。

 

 



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