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電子束光刻膠ma-N 2400 MR-EBL 6000系列
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 武漢市洪山區(qū)萊博茲科學(xué)儀器經(jīng)營(yíng)部
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2021/3/17 15:22:38
- 訪問(wèn)次數(shù) 826
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| 供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源 |
|---|
電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，*的抗干刻、濕刻性能；光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-80 nm以下；堿性水溶液下顯影；
應(yīng)用領(lǐng)域 用于微電子和納米電子、半導(dǎo)體器件制造、蝕刻掩膜
ma-N 2400系列的用于電子束和深紫外光刻
1)高分辨率（?40-50 nm）
2)堿性水顯影
3)抗蝕劑圖案具有良好的熱穩(wěn)定性
4)高耐干濕蝕刻性
5)容易移除
MR-EBL 6000系列用于電子束光刻
1)抗蝕劑圖案具有出色的熱穩(wěn)定性
2)高耐干濕蝕刻性
3)高分辨率（?40-50 nm）
4)需要曝光后烘烤（PEB）
電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，*的抗干刻、濕刻性能；光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-80 nm以下；堿性水溶液下顯影；
應(yīng)用領(lǐng)域 用于微電子和納米電子、半導(dǎo)體器件制造、蝕刻掩膜
規(guī)格：250ml
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