AZ P4620 AZ4562 AZ正性光刻膠
- 公司名稱 武漢市洪山區(qū)萊博茲科學(xué)儀器經(jīng)營(yíng)部
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) AZ P4620 AZ4562
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2021/4/6 9:37:08
- 訪問(wèn)次數(shù) 821
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| 供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源 |
|---|
AZ P4620 正性光刻膠
超厚膜，高對(duì)比度，高感光度正型光刻膠，適用于半導(dǎo)體制造及GMR磁頭制造。
特征：
參考工藝條件
前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：G線步進(jìn)式曝光機(jī)/接觸式曝光機(jī)
顯影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒
清洗 ：去離子水30秒
后烘 ：120℃ 60秒 (DHP)
剝離 ：AZ剝離液及/或氧等離子體灰化
預(yù)處理：烘涂粘附劑
旋涂：4000rad/min 30s
前烘： 110℃ 120-180s
曝光：熒光光源20-25s
顯影：25%TMAH:H2O=1:7 40-60s
堅(jiān)膜： 120℃ 120s
AZ 5214 E 圖像反轉(zhuǎn)光刻膠
這種特殊的光刻膠用于需要負(fù)壁輪廓的剝離技術(shù)。由酚醛清漆樹(shù)脂和萘醌二疊氮化物作為光敏化合物（PAC）組成的正性光致抗蝕劑，它們也能夠反轉(zhuǎn)圖像（IR），從而產(chǎn)生的掩模。
特 征
1）高分辨率，耐刻蝕，垂直性好
2）可反轉(zhuǎn)成負(fù)膠
3）做lift-of工藝
4）制作電極
5）旋涂厚度從0.5到6μm
AZ®4500系列
具有粘附力的厚光刻膠
特點(diǎn)：
AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）是正性厚光刻膠，在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能：
l 優(yōu)化對(duì)所有常見(jiàn)基材的附著力
l 寬廣的工藝參數(shù)窗口，可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定且可重復(fù)的光刻工藝
l 與所有常見(jiàn)的顯影液兼容（基于KOH或TMAH）
l 與所有常見(jiàn)的去膠劑兼容（例如AZ100去膠劑、有機(jī)溶劑或堿性溶劑）
l 對(duì)g，h和i線敏感（約320-440 nm）
l 光刻膠厚度范圍約 3-30微米
AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）的溶劑濃度不同，可達(dá)到的光刻膠膜厚有較大的范圍：
光刻膠型號(hào) | 光刻膠膜厚范圍 | 包裝規(guī)格 |
AZ ® 4533 | 轉(zhuǎn)速為4000 rpm時(shí)，膜厚約為3.3 µm；通過(guò)改變轉(zhuǎn)速，膜后可達(dá)2.5-5 µm。 | 多規(guī)格包裝，如1L、2.5L等 |
AZ ® 4562 | 轉(zhuǎn)速為4000 rpm時(shí)，膜厚約為3.3 µm；通過(guò)改變轉(zhuǎn)速，膜后可達(dá)4.5-10 µm；調(diào)整旋轉(zhuǎn)輪廓（中等旋涂速度下短時(shí)間旋涂），可達(dá)30 µm膜厚。 | 多規(guī)格包裝，如1L、2.5L等 |
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