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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)顯微鏡>激光共聚焦顯微鏡> NS3500 H 大面積高速三維成像掃描系統(tǒng)

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NS3500 H 大面積高速三維成像掃描系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 Nanoscope Systems lnc
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/6/5 16:27:19
  • 訪問次數(shù) 2286
產(chǎn)品標(biāo)簽

激光共聚焦顯微鏡

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Nanoscope Systems(納茲克股份有限公司)是一家專門從事共聚焦顯微鏡研發(fā)和生產(chǎn)的韓國公司,公司坐落于擁有韓國硅谷之稱的大田廣域市,公司周圍集中了大量高校以及高新技術(shù)企業(yè),與韓國LG,SK海力士、三星、ANI、 Humen,、KAIST、KBSI、首爾大學(xué)、釜山大學(xué)、NTU、 Southeast University等多家企業(yè)高校合作。憑借先進(jìn)的光學(xué)技術(shù),Nanoscope Systems向工業(yè)領(lǐng)域、低維材料領(lǐng)域、航空航天領(lǐng)域、化學(xué)領(lǐng)域、醫(yī)學(xué)領(lǐng)域、生命科學(xué)等領(lǐng)域提供了專業(yè)、精密的產(chǎn)品。迄今為止,Nanoscope Systems 已經(jīng)成為韓國先進(jìn)光學(xué)技術(shù)代表企業(yè)之一。

自創(chuàng)立以來Nanoscope Systems專注于提高產(chǎn)品的性能,嚴(yán)謹(jǐn)細(xì)致的工作態(tài)度是我們產(chǎn)品質(zhì)量的保障,自由的管理風(fēng)格構(gòu)成了公司*的文化。憑借優(yōu)質(zhì)的服務(wù)質(zhì)量、高素質(zhì)的銷售團(tuán)隊(duì)以及具有豐富儀器技術(shù)和應(yīng)用知識的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)和售后團(tuán)隊(duì), Nanoscope System獲得了各大企業(yè)和科研院校的好評。

Nanoscope Systems (中國)

為了更好的適應(yīng)中國市場發(fā)展的需要,Nanoscope Systems(中國)將總部設(shè)在上海,并在全國各地設(shè)有測試中心,而上海巨納科技有限公司作為韓國Nanoscope Systems 在中國Exclusive dealer,全權(quán)負(fù)責(zé)Nanoscope Systems 在中國的全部商務(wù)活動。



“激光共聚焦顯微鏡” “激光熒光共聚焦顯微鏡” “熒光顯微鏡” “拉曼光譜儀”

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,冶金,航天,汽車 激光 405nm

NS-3500H 是一種準(zhǔn)確、可靠的三維(3D)掃描系統(tǒng),通過快速光學(xué)掃描模塊和信號處理算法實(shí)現(xiàn)實(shí)時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結(jié)構(gòu),可以為半導(dǎo)體晶片,F(xiàn)PD產(chǎn)品,MEMS設(shè)備,玻璃基板,材料表面等提供各種解決方案。

Features & Benefits(性能及優(yōu)勢):

  • 高分辨無損傷光學(xué)3D測量                               自動傾斜補(bǔ)償

  • 實(shí)時共焦成像                                                 簡單的數(shù)據(jù)分析模式

  • 多種光學(xué)變焦                                                 雙Z掃描

    大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

  • 實(shí)時CCD明場和共聚焦成像                            無樣品準(zhǔn)備


Application field(應(yīng)用領(lǐng)域):

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結(jié)構(gòu)的高度,寬度,角度,面積和體積,例如

-半導(dǎo)體:IC圖形,凹凸高度,線圈高度,缺陷檢測,CMP工藝

- FPD產(chǎn)品:觸摸屏屏幕檢測,ITO圖案,LCD柱間距高度

- MEMS器件:結(jié)構(gòu)三維輪廓,表面粗糙度,MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電池,太陽能電池紋理,激光圖案

-材料研究:模具表面檢測,粗糙度,裂紋分析

Dimension(尺寸):

Specification(規(guī)格):


?Model

Microscope  NS-3500

備注


                     NS-3500E

物鏡倍率

10x

20x

50x

100x

150x


觀察/  測量范圍  

水平 (H): μm

1400

700

280

140

93


垂直 (V): μm

1050

525

210

105

70


工作范圍: mm

16.5

3.1

0.54

0.3

0.2


數(shù)值孔徑(N.A.)

0.30

0.46

0.80

0.95

0.95


光學(xué)變焦

x1 to x6


總放大倍率

178x to 26700x


觀察/測量光學(xué)系統(tǒng)  

Pinhole共聚焦光學(xué)系統(tǒng)


高度測量

測量掃描

長掃描 : 10 mm


顯示分辨率

0.001 μm


重復(fù)率 σ

0.010 μm

注 1

寬度測量

顯示分辨率

0.001 μm


重復(fù)率 3σ

0.02 μm

注 2

幀記憶

像素

1024x1024, 1024x768, 1024x384,   1024x192, 1024x96


單色圖像

12 bit


彩色圖像

8-bit for RGB each


高度測量

16 bit


幀速率

表面掃描

20 Hz to 160 Hz


線掃描

~8 kHz


自動功能

自動增益


激光共焦測量光源

波長

405nm


輸出

~2mW


激光等級

Class 3b


激光接收元件

PMT (光電倍增管)


光學(xué)觀察光源

10W LED


光學(xué)觀察照相機(jī)

成像元件

1/2” 彩色圖像 CCD 傳感器


記錄分辨率

640x480


自動調(diào)整

增益, 快門速度, White balance


數(shù)據(jù)處理單元

PC


電源

電源電壓

100 to 240 VAC, 50/60 Hz


電流消耗

500 VA max.


重量

顯微鏡

Approx. ~200 kg

(Measuring head unit : ~12 kg)


控制器

~8 kg


注1 :以100×/ 0.95物鏡對標(biāo)準(zhǔn)樣品(步長1μm)進(jìn)行100次測量                                                                    

注 2 :以100×/ 0.95物鏡對標(biāo)準(zhǔn)樣品(5μm間距)進(jìn)行100次測量。





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