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NS3500 H 大面積高速三維成像掃描系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海巨納科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地 ?? ???
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/6/4 15:07:28
  • 訪問(wèn)次數(shù) 1992
產(chǎn)品標(biāo)簽

激光共聚焦顯微鏡

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上海巨納科技有限公司是巨納集團(tuán)旗下科學(xué)儀器事業(yè)部。巨納集團(tuán)SUNANO GROUP產(chǎn)業(yè)格局包括新能源業(yè)務(wù)、通信業(yè)務(wù)、現(xiàn)代貿(mào)易業(yè)務(wù)、微納米業(yè)務(wù)、科研檢測(cè)業(yè)務(wù)、投資管理業(yè)務(wù)等。旗下上海巨納科技有限公司是集多種高科技產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的企業(yè),同時(shí)是多家世界高科技公司在中國(guó)的總代理。2015年起正式并入巨納集團(tuán)科學(xué)儀器事業(yè)部體系并作為其大陸運(yùn)營(yíng)主體。

巨納集團(tuán)科學(xué)儀器事業(yè)部,主要致力于研究開發(fā)和整合儀器設(shè)備,從事表面科學(xué)、分析儀器、生命科學(xué)設(shè)備、光伏設(shè)備及實(shí)驗(yàn)室儀器的設(shè)計(jì)、開發(fā)和制造及分銷;為科研、教育、檢測(cè)及生產(chǎn)提供完整可靠的解決方案,已經(jīng)成為了眾多高校和企業(yè)的優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商。

近年來(lái)巨納集團(tuán)科學(xué)儀器事業(yè)部先后收購(gòu)了高純水機(jī)、光學(xué)平臺(tái)、真空干燥箱等制造企業(yè),創(chuàng)立了SUNANO、NextCVD、低維材料在線91cailiao、FIPHENE、GRCC等品牌,并與韓國(guó)Nanoscope System、日本HORIBA、英國(guó)Oxford Instruments、美國(guó)CRAIC、法國(guó)PhaseView、瑞士LynceeTec等品牌深入合作,加強(qiáng)了公司產(chǎn)品的多樣化。


巨納集團(tuán)科學(xué)儀器事業(yè)部為您的研究與分析提供先進(jìn)工具與解決方案:

光學(xué)光譜·分子光譜·元素分析·表面測(cè)量·顆粒表征·光學(xué)平臺(tái)·激光共聚焦顯微鏡·激光熒光共聚焦顯微鏡·共焦激光拉曼光譜儀·便捷式激光拉曼光譜儀·橢圓偏振光譜儀·激光粒度儀·多功能寬密度等離子體ICP-LP-PE-CVD·碳/硫分析·氧/氮/氫分析·等離子體發(fā)射光譜儀·輝光放電光譜儀··全息數(shù)字顯微鏡··高純水機(jī)··各類干燥箱/培養(yǎng)箱/離心機(jī)/攪拌器/高速分散器/水浴鍋/振蕩器/低溫槽/加熱槽·低維材料等。

韓國(guó)Nanoscope Systems是激光共聚焦顯微鏡開發(fā)商和制造商,擁有微納米尺度上的光學(xué)表面測(cè)量技術(shù),主要產(chǎn)品激光共聚焦顯微鏡和激光熒光共聚焦顯微鏡廣泛用于工業(yè)領(lǐng)域和科學(xué)研究中的三維測(cè)量和檢查,為三星、LG、SK海力士、韓華集團(tuán)、V-technology等世界企業(yè)提供精密的解決方案。作為共聚焦顯微技術(shù)的開發(fā)者和提供者,韓國(guó)Nanoscope System致力于以更高的分辨率、更高速度的三維測(cè)量的新技術(shù)。 除了半導(dǎo)體、FPD、MEMS、OLED、太陽(yáng)能、材料等領(lǐng)域,加上熒光和熱反射功能,在生物、化學(xué)和醫(yī)療領(lǐng)域也有出色的應(yīng)用。巨納作為韓國(guó)Nanoscope System在中國(guó)區(qū)域的總代理,全面負(fù)責(zé)經(jīng)營(yíng)銷售及售后服務(wù)等業(yè)務(wù)。


拉曼光譜儀,3D顯微鏡,分光光度計(jì),輝光放電,ICP,

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,航天,汽車,電氣 激光 405nm

NS3500H 大面積高速三維掃描系統(tǒng)

NS-3500H 是一種準(zhǔn)確、可靠的三維(3D)掃描系統(tǒng),通過(guò)快速光學(xué)掃描模塊和信號(hào)處理算法實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)共焦顯微圖像。在測(cè)量和檢測(cè)微觀三維結(jié)構(gòu),如半導(dǎo)體晶片,F(xiàn)PD產(chǎn)品,MEMS設(shè)備,玻璃基板,材料表面等方面擁有*的解決方案。

Features & Benefits(性能及優(yōu)勢(shì)):

  • 高分辨無(wú)損傷光學(xué)3D測(cè)量                               自動(dòng)傾斜補(bǔ)償

  • 實(shí)時(shí)共焦成像                                                 簡(jiǎn)單的數(shù)據(jù)分析模式

  • 多種光學(xué)變焦                                                 雙Z掃描

    大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測(cè)

  • 實(shí)時(shí)CCD明場(chǎng)和共聚焦成像                            無(wú)樣品準(zhǔn)備

  • 自動(dòng)聚焦


Application field(應(yīng)用領(lǐng)域):

NS-3500是測(cè)量低維材料的有前途的解決方案。

可測(cè)量微米和亞微米結(jié)構(gòu)的高度,寬度,角度,面積和體積,例如

-半導(dǎo)體:IC圖形,凹凸高度,線圈高度,缺陷檢測(cè),CMP工藝

- FPD產(chǎn)品:觸摸屏屏幕檢測(cè),ITO圖案,LCD柱間距高度

- MEMS器件:結(jié)構(gòu)三維輪廓,表面粗糙度,MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽(yáng)能電池,太陽(yáng)能電池紋理,激光圖案

-材料研究:模具表面檢測(cè),粗糙度,裂紋分析

Dimension(尺寸):

Specification(規(guī)格):


Model

Microscope  NS-3500

備注


Controller    NS-3500E

物鏡倍率

10x

20x

50x

100x

150x


觀察/  測(cè)量范圍  

水平 (H): μm

1400

700

280

140

93


垂直 (V): μm

1050

525

210

105

70


工作范圍: mm

16.5

3.1

0.54

0.3

0.2


數(shù)值孔徑(N.A.)

0.30

0.46

0.80

0.95

0.95


光學(xué)變焦

x1 to x6


總放大倍率

178x to 26700x


觀察/測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)  

針孔共聚焦光學(xué)系統(tǒng)


高度測(cè)量

測(cè)量掃描

長(zhǎng)掃描 : 10 mm


顯示分辨率

0.001 μm


重復(fù)率 σ

0.010 μm

注 1

寬度測(cè)量

顯示分辨率

0.001 μm


重復(fù)率 3σ

0.02 μm

注 2

幀記憶

像素

1024x1024, 1024x768, 1024x384,   1024x192, 1024x96


單色圖像

12 bit


彩色圖像

8-bit for RGB each


高度測(cè)量

16 bit


幀速率

表面掃描

20 Hz to 160 Hz


線掃描

~8 kHz


自動(dòng)功能

自動(dòng)增益


激光共焦測(cè)量光源

波長(zhǎng)

405nm


輸出

~2mW


激光等級(jí)

Class 3b


激光接收元件

PMT (光電倍增管)


光學(xué)觀察光源

10W LED


光學(xué)觀察照相機(jī)

成像元件

1/2” 彩色圖像 CCD 傳感器


記錄分辨率

640x480


自動(dòng)調(diào)整

增益, 快門速度, White balance


數(shù)據(jù)處理單元

PC


電源

電源電壓

100 to 240 VAC, 50/60 Hz


電流消耗

500 VA max.


重量

顯微鏡

Approx. ~200 kg

(Measuring head unit : ~12 kg)


控制器

~8 kg


注1 :以100×/ 0.95物鏡對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品(步長(zhǎng)1μm)進(jìn)行100次測(cè)量                                                                    

注 2 :以100×/ 0.95物鏡對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品(5μm間距)進(jìn)行100次測(cè)量。






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