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FR-Mic 全自動(dòng)帶顯微鏡多點(diǎn)測(cè)量

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的高科技設(shè)備分銷商,主要為數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、半導(dǎo)體、光通訊、高校及研發(fā)中心提供各類測(cè)量設(shè)備、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關(guān)系。自1989年創(chuàng)立至今,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù)、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國香港,中國大陸(上海、東莞、北京),中國臺(tái)灣,泰國,菲律賓,馬來西亞,越南及新加坡等地區(qū)。


岱美在中國大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

晶圓鍵合機(jī)、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)、硅片清洗機(jī)、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測(cè)、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測(cè)量儀、薄膜厚度檢測(cè)儀、主動(dòng)及被動(dòng)式防震臺(tái)系統(tǒng)、應(yīng)力檢測(cè)儀、電容式位移傳感器、定心儀等。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,請(qǐng)聯(lián)系我們,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長期發(fā)展的目標(biāo)。




膜厚儀,輪廓儀,EVG鍵合機(jī),EVG光刻機(jī),HERZ隔震臺(tái),Microsense電容式位移傳感器

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 電子,綜合
  FR-Mic多層膜厚度測(cè)試儀是一款快速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,可以將光斑縮小到幾個(gè)微米,進(jìn)而分析微小區(qū)域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺(tái)專用計(jì)算機(jī)控 制的 XY 工作臺(tái),使其快 速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性 。也可以搭配自動(dòng)平臺(tái)測(cè)量 400x400mm 大小樣品。
  Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對(duì)局部區(qū)域薄膜厚度,厚度映射,光學(xué)常數(shù),反射率,折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)量。
  【相關(guān)應(yīng)用】
  高校 & 研究所實(shí)驗(yàn)室
  半導(dǎo)體制造 (氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)
  MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
  LEDs, VCSELs 多層膜測(cè)量應(yīng)用
  數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
  陽極處理氧化膜
  曲面基底的硬化涂層
  聚合物膜層, 粘合劑.
  生 物醫(yī)學(xué)(聚對(duì)二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
  OEM或客制化應(yīng)用
  【特點(diǎn)】
  實(shí)時(shí)光譜測(cè)量
  薄膜厚度,光學(xué)特性,非均勻性測(cè)量, 厚度映射
  使用集成 USB 高品質(zhì)彩色攝像機(jī)進(jìn)行成像 (所視即所測(cè))

【技術(shù)參數(shù)】


  *測(cè)量面積(收集反射或透射信號(hào)的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關(guān)。
  【工作原理】


  1、規(guī)格如有更改,恕不另行通知;
  2、測(cè)量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀和 XRD 相比較,
  3、連續(xù) 15 天測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差平均值。樣品:(1um SiO2 on Si.) ,
  4、100 次厚度測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差,樣品:1um SiO2 on Si.
  5、超過 15 天的標(biāo)準(zhǔn)偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。
  6、使用反射式物鏡。







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