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HANWA HED-T5000 傳輸線脈沖 (TLP)測(cè)試設(shè)備

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測(cè)試機(jī)測(cè)試設(shè)備

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南京芯測(cè)軟件技術(shù)有限公司,專業(yè)打造半導(dǎo)體晶圓級(jí)測(cè)試及芯片檢測(cè)等系統(tǒng)集成平臺(tái)。公司致力為客戶提供半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備國產(chǎn)化改造,以及系統(tǒng)集成的一站式平臺(tái)服務(wù)。公司的目標(biāo)是成為國內(nèi)晶圓級(jí)在片測(cè)試,器件測(cè)量系統(tǒng)軟件、硬件的先進(jìn)供應(yīng)商,以滿足國內(nèi)用戶需求,開發(fā)半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備和系統(tǒng)集成軟件定制化服務(wù)。

南京芯測(cè)的在專注于在片測(cè)試系統(tǒng)設(shè)備經(jīng)銷與晶圓在片測(cè)試軟件的研發(fā)。涉及的設(shè)備包括:手動(dòng)探針臺(tái)、半自動(dòng)探針臺(tái)、全自動(dòng)探針臺(tái)、硅光探針臺(tái)、射頻探針臺(tái)、高低溫探針臺(tái)、除此之外涉及經(jīng)銷芯片ESD測(cè)試系統(tǒng)、封裝及工藝檢測(cè)設(shè)備等。我們服務(wù)的領(lǐng)域涵蓋半導(dǎo)體晶圓級(jí)在片測(cè)試、射頻微波器件測(cè)量,大功率器件測(cè)試、微組裝封裝工藝檢測(cè)、失效分析、材料測(cè)試等應(yīng)用行業(yè)

 

 

 

 

探針臺(tái),芯片ESD測(cè)試設(shè)備,TLP測(cè)試設(shè)備,CDM測(cè)試設(shè)備

應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電氣,綜合

ESD(靜電放電)測(cè)試是在半導(dǎo)體可靠性測(cè)試期間進(jìn)行的。ESD測(cè)試對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)計(jì)的開發(fā)和半導(dǎo)體制造的最終生產(chǎn)過程中的質(zhì)量保證都是不可少的。HANWA HED-T5000 傳輸線脈沖 (TLP)測(cè)試設(shè)備


TLP

 

HED-T5000 |T5000-VF |T5000-HC


TLP 測(cè)試機(jī) 

l 用于獲取器件保護(hù)電路的相關(guān)參數(shù)特性

l 為器件升級(jí)提供支持,縮短產(chǎn)品周期

提供普通和VF(非常快)型號(hào)。VF模型提供正常(100nm / 200nm)和VF(1nm-)脈沖寬度。

l   具有半自動(dòng)探針臺(tái)整合功能的可選自動(dòng)測(cè)試可大大提高生產(chǎn)率。

l   可與HED-W5000,ESD(HBM,MM)測(cè)試儀結(jié)合使用現(xiàn)在提供大電流輸出型號(hào)(T5000-HC)。

HANWA HED-T5000 傳輸線脈沖 (TLP)測(cè)試設(shè)備

 

TLP 測(cè)試機(jī) 產(chǎn)品系列

此設(shè)備是對(duì)保護(hù)電路的工作特性進(jìn)行模擬測(cè)試的設(shè)備

對(duì)集成電路里保護(hù)電路的工作參數(shù)的收集與分析有很大幫助

也可進(jìn)行VF-TLP測(cè)試

產(chǎn)品名/型號(hào) 設(shè)備說明 設(shè)備介紹視頻

HED-T5000/T5000VF
HED-T5000/
HED-T5000VF

此設(shè)備配備了先進(jìn)的測(cè)試模式

具備印加脈沖寬度為100ns/200ns的normal TLP測(cè)試與寬度到1ns的VF-TLP(Very Fast TLP)測(cè)試模式

有助于驗(yàn)證HBM/CDM模式的測(cè)試

對(duì)于器件管腳的入射波和器件管腳發(fā)出的反射波,都可在示波器上確認(rèn)到

此數(shù)據(jù)會(huì)自動(dòng)保存,并在專用的顯示軟件上表示

專用顯示軟件可對(duì)入射波/反射波的合計(jì)值,snapback特性以及漏電流測(cè)試的電流值進(jìn)行圖形描繪

被保存的示波器上的數(shù)據(jù)可以進(jìn)行高自由度的演算處理

比如,對(duì)于不同工藝的晶體管的ON電壓及可以加在保護(hù)電路上的最大電流值等,可以通過曲線的重疊描繪來確認(rèn)其差異

并且可以與半自動(dòng)探針臺(tái)連接,實(shí)現(xiàn)TLP測(cè)試的自動(dòng)化

由于可以在Wafer level上進(jìn)行印加管腳間或芯片間的自動(dòng)移位,所以能夠很大地提升測(cè)試效率

 

HED-T5000-HC
HED-T5000-HC

目前,對(duì)于半導(dǎo)體器件的高集成度?高頻?高耐壓的需求逐年增加

對(duì)于在以往的TLP測(cè)試機(jī)無法完成的高電壓?大電流的特性測(cè)試,在本設(shè)備上得以實(shí)現(xiàn)、并有助于高耐壓元件工作參數(shù)的取得及分析

 

 



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