一、什么是EDI超純水設(shè)備

是應(yīng)用有反滲透系統(tǒng)之后，取代混合離子交換床的成熟技術(shù)具有產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定，運(yùn)行費(fèi)用低，操作管理方便。占地面積小及無(wú)有害廢水排放等優(yōu)點(diǎn)。超純水制備工藝的發(fā)展方向，已被全SJ主要水處理工程公司所認(rèn)證。自1986年EDI技術(shù)工業(yè)化以來(lái)，已有數(shù)千套EDI投入支行，尤其在制藥、半導(dǎo)體、電力和光電等工業(yè)中得到了非常廣泛的應(yīng)用。總的說(shuō)有八大優(yōu)點(diǎn)：

   ① 不需要酸堿再生；

   ② 可連續(xù)生產(chǎn)：

   ③ 不需要處理廢酸堿；

   ④ 運(yùn)行成本低；

   ⑤ 系統(tǒng)設(shè)計(jì)安裝簡(jiǎn)單；

   ⑥ 安裝條件簡(jiǎn)單；

   ⑦ 出水水質(zhì)穩(wěn)定；

   ⑧ 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)。

二、EDI超純水設(shè)備技術(shù)

  EDI是水處理技術(shù)上一項(xiàng)革命性進(jìn)步。該技術(shù)應(yīng)用電再生離子交換除鹽工藝取代傳統(tǒng)混合離子交換除鹽工藝 DI 。通過(guò)離子交換樹(shù)脂及選擇性離子膜達(dá)到高脫鹽效果，與反滲透結(jié)合的聯(lián)合工藝使產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá) 10~15M Ω• CM 的高規(guī)格產(chǎn)水。

三、EDI超純水設(shè)備基本參數(shù)

1、給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。

2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

3、溫度：5-35℃

4、進(jìn)水壓力：最大為4kg/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi)。

四、EDI純水模塊（電除鹽）的優(yōu)點(diǎn)

1、不需要酸堿再生：電除鹽的操作安全的，廢水的處理變得簡(jiǎn)單了。

2、可連續(xù)生產(chǎn)：電除鹽的生產(chǎn)是連續(xù)的，免除了使用混床過(guò)程中復(fù)雜的再生操作，減少了很多備用設(shè)備。

3、不需要處理廢酸堿：沒(méi)有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng)。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進(jìn)口（EDI中濃水量比純水少得多）。

4、安裝條件簡(jiǎn)單：電除鹽在安裝時(shí)，占地面積小，大部分標(biāo)準(zhǔn)廠房都能滿足，對(duì)于較低的廠房，可以通過(guò)對(duì)電除鹽模塊的水平配置解決。

5、系統(tǒng)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單：電除鹽的模塊設(shè)計(jì)很容易把它的流量做到450噸/小時(shí)甚至更高。

6、運(yùn)行成本低：電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比，在價(jià)格上有競(jìng)爭(zhēng)性。

7、實(shí)用的設(shè)計(jì)：對(duì)于電除鹽系統(tǒng)，不管是維修還是增減設(shè)備的容量都是很容易的,必須要更換膜堆時(shí)，在現(xiàn)場(chǎng)只要花極少的停機(jī)時(shí)間就可以完成。

8、水質(zhì)穩(wěn)定：電除鹽的出水質(zhì)量穩(wěn)定有把握。不會(huì)有普通混床那樣的水質(zhì)變化。

9、安裝維修簡(jiǎn)便：電除鹽裝置允許通過(guò)對(duì)其他膜堆的流量重新分配而達(dá)到對(duì)某一個(gè)膜堆維修的要求，不改變系統(tǒng)的性能。

10、標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)：利用標(biāo)準(zhǔn)單元，如同搭積木般的組合可以滿足用戶不同產(chǎn)水量的需要。

四、應(yīng)用

應(yīng)用于電池行業(yè)領(lǐng)域，超純水系統(tǒng)設(shè)備在工業(yè)行業(yè)中的應(yīng)該領(lǐng)域很是廣泛。電池行業(yè)用超純水包括蓄電池生產(chǎn)用純水，鋰電池生產(chǎn)用純水，太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用純水，蓄電池格板用純水。電池中電解液的配備對(duì)純水要求十分嚴(yán)格, 通常要求水的電導(dǎo)率在0.1us/cm(電阻值在10兆歐姆)以上，傳統(tǒng)用來(lái)制備電池用超純水的工藝是常采用陰陽(yáng)樹(shù)脂交換設(shè)備，該工藝的缺點(diǎn)在于樹(shù)脂在使用一段時(shí)間以后要經(jīng)常再生。

1.電子、電力、電鍍、照明電器、實(shí)驗(yàn)室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗(yàn)、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。

2.化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水制備。

3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。

4.食品工業(yè)用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業(yè)等。

5.海水、苦咸水淡化：海島、艦船、高鹽堿地區(qū)生活用水改善。

6.樓宇、社區(qū)優(yōu)質(zhì)供水:星級(jí)賓館、機(jī)場(chǎng)、房產(chǎn)物業(yè)純水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)等。

7.化工行業(yè)工藝用水：化工冷卻、化肥、化學(xué)藥劑制造。

8.工業(yè)產(chǎn)品制造用水：汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細(xì)加工清洗等純水制備。

9.電力行業(yè)鍋爐補(bǔ)給水:熱力、火力發(fā)電鍋爐、中、低壓鍋爐動(dòng)力系統(tǒng) 精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水。

超純水設(shè)備中EDI模塊的進(jìn)水經(jīng)過(guò)預(yù)處理和反滲透系統(tǒng)在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會(huì)，但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞。遇到上述情況，必須對(duì)超純水系統(tǒng)設(shè)備中EDI模塊進(jìn)行清洗，使之恢復(fù)到原來(lái)的技術(shù)特性。

EDI模塊要怎么清洗?

1、在線清洗：在線清洗就是指對(duì)反滲透系統(tǒng)總體開(kāi)展清洗，膜元器件無(wú)需取出高壓容器，一般在很大系統(tǒng)軟件中設(shè)計(jì)方案應(yīng)用。此清洗方法使用方便便捷，速度快，缺陷為清洗不*，實(shí)際效果不理想化。

2、線下清洗：線下清洗就是指將超純水系統(tǒng)設(shè)備中EDI模塊從反滲透高壓容器中卸掉，裝進(jìn)專用型清洗機(jī)器設(shè)備中開(kāi)展清洗，此清洗方法使用方便便捷，清洗*、實(shí)際效果好。

清洗注意事項(xiàng)：

1、需要清洗的設(shè)備管路必須是與其他連接設(shè)備的連接管路*隔離的。

2、需要清洗的設(shè)備其電源必須是*切斷并有“正在操作，不得送電”的安全警示。

3、整個(gè)清洗過(guò)程中清洗的工作壓力不能超過(guò) 0.15MPa。

4、嚴(yán)禁應(yīng)用甲苯或別的的有機(jī)溶劑。

5、維護(hù)安全性標(biāo)識(shí)。