合金金屬靶材磁控濺射鍍膜設(shè)備 濺射儀

小型濺射儀（Sputtering System）是一種利用濺射技術(shù)制備薄膜的設(shè)備，主要用于制備和研究金屬、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。

它通常由四個主要組件組成：真空室、濺射槍、靶材和控制系統(tǒng)。真空室是封閉的金屬或玻璃盒子，用于維持真空環(huán)境，以避免雜質(zhì)和氣體干擾制備過程。濺射槍是用于向靶材表面發(fā)射離子的設(shè)備，它可以控制濺射速率和角度，從而控制薄膜的厚度和均勻性。靶材是被準備薄膜所需的原材料，其材料和形狀根據(jù)要制備的薄膜類型而變化?？刂葡到y(tǒng)是用于控制整個設(shè)備的電子和電氣系統(tǒng)，包括真空泵、用于創(chuàng)建和維持真空的電子控制器和電源、濺射槍控制器和監(jiān)控器等。

小型濺射儀通常用于研究實驗室或小批量生產(chǎn)，它具有制備穩(wěn)定、純凈、均勻膜的優(yōu)點，可以制備幾納米到數(shù)百納米之間的薄膜。它也被廣泛應(yīng)用于電子器件、太陽能電池、顯示器件、硬盤驅(qū)動器等領(lǐng)域。

合金金屬靶材磁控濺射鍍膜設(shè)備 濺射儀

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料設(shè)備創(chuàng)新型企業(yè)，如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實驗室 及科學(xué)高校，科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)和信任的品牌。

公司以科技創(chuàng)新為主，服務(wù)社會為宗旨，積極設(shè)計開發(fā)新型材料制備設(shè)備，奉獻于教育和科學(xué)，經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累，擁有熱工，制造，控制相關(guān)技術(shù)，為化學(xué)，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學(xué)強強聯(lián)合，形成了有效的信息，技術(shù)交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！

目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個系列幾十款產(chǎn)品，產(chǎn)品囊括實驗電爐 CVD供氣系統(tǒng) 等離子清洗機 小型離子濺射儀 小型蒸鍍儀 石英管真空封口 真空探針臺 半導(dǎo)體等。 主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。 公司與國內(nèi)高校，科研院所有多層次的合作關(guān)系，建有開放實驗室，相關(guān)領(lǐng)域的教授、工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。

我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴謹?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力，科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。