日立高新離子研磨裝置IM4000

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間。（加工率：硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的可拆卸樣品臺(tái)裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
 

特點(diǎn)

混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性

高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間(加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)

可拆卸式樣品臺(tái)：為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨，樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型