專用電子束光刻系統(tǒng)
自動化、穩(wěn)定性和吞吐量

EBPG Plus 高性能納米光刻系統(tǒng)可在 100 kV 電壓下提供高達 8 英寸的能力。其全自動化、高速和高分辨率可以為中心的操作以及半導體制造產(chǎn)生的光刻技術(shù)。

憑借其創(chuàng)新的架構(gòu)和具有吸引力的擁有成本，VOYAGER 納米光刻系統(tǒng)降低了高速電子束光刻的準入門檻。

RAITH150 兩個直寫工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亞 8 納米結(jié)構(gòu)可以在從幾毫米到 8 英寸晶圓的樣品尺寸上實現(xiàn)，而熱穩(wěn)定性即使在具有挑戰(zhàn)性的環(huán)境中也能支持最高性能。

多技術(shù)電子束光刻系統(tǒng)

靈活性、多功能性和 SEM 成像

這種多功能的多技術(shù)納米光刻系統(tǒng)將 EBL 系統(tǒng)與用于定制實驗和工藝的開放平臺相結(jié)合。eLINE Plus 具有一系列不同的選項，是通用的納米工程 EBL 系統(tǒng)。

EBL-SEM 混合系統(tǒng)將先進的納米光刻和分析 SEM 成像結(jié)合在一個工具中。PIONEER Two 定義了一種新型的經(jīng)濟型專業(yè)電子束光刻系統(tǒng)，適用于納米加工和基于 SEM 的分析。