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CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應(yīng)系統(tǒng)
- 公司名稱 北京泊菲萊科技有限公司
- 品牌 泊菲萊
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/10/31 15:19:22
- 訪問(wèn)次數(shù) 79
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,能源,制藥 |
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關(guān)鍵特征
● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應(yīng)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應(yīng);
● 可用于氣-固相光催化、液固相光催化反應(yīng)的微分式和積分式光化學(xué)反應(yīng);
● 氣體流速可三路獨(dú)立控制,使用超厚石英光窗,可用于全光譜范圍內(nèi)的光化學(xué)反應(yīng);
● 具有二級(jí)穩(wěn)流閥及二級(jí)穩(wěn)壓閥控制,三路進(jìn)氣可分別控制。
應(yīng)用領(lǐng)域
▲特別適用 ●較為適用 ○可以使用
▲ 光降解液體污染物(如染料、苯及苯系物等) ▲ 光催化CO2還原
▲ 其他高溫高壓(光)化學(xué)反應(yīng)
● 光催化分解水制氫/氧 ● 光催化全分解水
● 光降解氣體污染物(如VOCs 、甲醛、氮氧化物、硫氧化物等)
○ 光催化量子效率測(cè)量 ○光合成 ○ PEC光電化學(xué)
技術(shù)參數(shù)
● CO?氣相還原-PLR-HGPR高溫高壓反應(yīng)系統(tǒng)反應(yīng)溫度 :室溫+10~300 ℃ (可達(dá)380℃);
● 反應(yīng)壓力:1~10 MPa;
● 反應(yīng)容積:50 mL(可定制25、100 mL);
● 氣路數(shù)量:3路;
● 氣體總流量:1~60 mL/min;
● 具有安全泄壓閥:7 MPa(可調(diào)節(jié));反應(yīng)體系溫度、壓力儀表顯示;
● 獨(dú)立高壓氣體混勻室 :1 L,保證氣體在實(shí)驗(yàn)中的連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間供應(yīng);具有二級(jí)穩(wěn)流閥及二級(jí)穩(wěn)壓閥控制,三路進(jìn)氣可分別控制;
● 末端電子皂膜流量計(jì),用于氣體流量監(jiān)測(cè)(10~60 mL/min寬范圍調(diào)節(jié));
● 整體安全一體式防護(hù)箱設(shè)計(jì),保證了實(shí)驗(yàn)的安全性;