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鋼材元素成分含量檢測(cè)儀

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訂貨量 ≥1
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    我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長(zhǎng)色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質(zhì)譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質(zhì)譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)、礦漿載流在線采樣儀(OSA)等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測(cè)等)、玩具安全(EN71-3等),F963中規(guī)定的有害物質(zhì):鉛Pb、砷As、銻Sb、鋇Ba、鎘Cd、鉻Cr、Hg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質(zhì)采礦(各種礦石品位檢測(cè)設(shè)備)、塑料(無(wú)鹵測(cè)試等)、石油化工、高嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、環(huán)境保護(hù)、香精香料、紡織品、醫(yī)藥、商品檢驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)、人體微量元素和化合物檢驗(yàn)等等。銷售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析,化合物測(cè)試,電鍍鍍層厚度檢測(cè)等。





能量色散X熒光光譜儀,ROHS ROHS2.0 REACH指令檢測(cè)儀|化合物分析|元素分析儀|土壤檢測(cè)儀|ROHS檢測(cè)儀|合金檢測(cè)儀|元素分析儀|礦石檢測(cè)儀|含鉛量檢測(cè)儀

應(yīng)用領(lǐng)域 建材,電子,汽車,電氣,綜合

鋼材元素成分含量檢測(cè)儀

OES火花直讀光譜儀通常由光學(xué)系統(tǒng)、電火花激發(fā)裝置、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)和計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)組成。光學(xué)系統(tǒng)的作用是將激發(fā)出的特征光譜聚焦成圖像,并傳遞給數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。電火花激發(fā)裝置用于產(chǎn)生電火花,激發(fā)鋼材樣品,產(chǎn)生特征光譜。數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)負(fù)責(zé)采集和測(cè)量這些光譜數(shù)據(jù),計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)則用于控制整個(gè)檢測(cè)過(guò)程和數(shù)據(jù)處理。

在鋼材成分檢測(cè)中,OES火花直讀光譜儀具有非常廣泛的應(yīng)用。它可以用于原材料的檢驗(yàn)、生產(chǎn)過(guò)程中的質(zhì)量控制、成品檢驗(yàn)等環(huán)節(jié)。同時(shí),也可以用于科研和教學(xué),為鋼鐵行業(yè)的發(fā)展提供重要的技術(shù)支持。下面詳細(xì)介紹OES儀器

OES光電直讀光譜儀簡(jiǎn)介:

儀器優(yōu)勢(shì):

1、CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;

2、國(guó)內(nèi)生產(chǎn)真空CCD/CMOS全譜技術(shù)光譜儀的制造商;

3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用

4、升級(jí)多基體方便,無(wú)須變動(dòng)增加硬件

5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時(shí)間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;

6、體積小、重量輕, 移動(dòng)安裝方便 ;

7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ;

直讀光譜分析主要特點(diǎn):

1、可測(cè)定包括痕量碳(C),磷(P,硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;

2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料,通過(guò)設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果;

3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性;

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使真空室容積更??;

5、自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線,與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定;

6、開放式的電極架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;

7、工作曲線采用國(guó)際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動(dòng)扣除干擾;

8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;

9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性;

10、銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;

11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣;

12、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長(zhǎng),并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;

13、高性能DSPARM處理器,具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運(yùn)行狀況;

14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無(wú)關(guān),使儀器具有更好的適用性;

15、核心器件全部,保證了儀器好品質(zhì)。

儀器參數(shù):

直讀光譜儀產(chǎn)品參數(shù)指標(biāo)

光學(xué)系統(tǒng)-光學(xué)結(jié)構(gòu)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)

光學(xué)系統(tǒng)-探測(cè)器

多塊高性能線陣

激發(fā)臺(tái)

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時(shí)3-5L/min, 待機(jī)時(shí):無(wú)須待機(jī)流量

鎢材噴射電極技術(shù)

點(diǎn)擊自吹掃功能

補(bǔ)

熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)

激發(fā)光源

HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)

預(yù)

高能預(yù)燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)-處理器

ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)-接口

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

220VAC,50Hz

分析時(shí)700W,待機(jī)狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)

工作濕度

20-80%

應(yīng)用領(lǐng)域:

直讀光譜儀應(yīng)用CCD/CMOS光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗(yàn),中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。

直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇等等。

鋼材元素成分含量檢測(cè)儀



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