GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀
- 公司名稱(chēng) 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/11/7 15:07:27
- 訪問(wèn)次數(shù) 1063
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,冶金,綜合 |
GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀,為自動(dòng)化技術(shù)鍍膜機(jī)給予市面上最好使用價(jià)值的商品。它被用于非導(dǎo)電性樣品的預(yù)備處理商品,以提升三維成像屏幕分辨率,樣品導(dǎo)電率,電子電荷降低并減少對(duì)比較敏感樣品的光線損害。
型號(hào)&名稱(chēng) | GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀 |
真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵(進(jìn)口 ):德國(guó)萊寶90i (單磁懸浮分子泵,抽速為90L/s) 旋片式真空泵:浙江飛越VRD-4 (抽速為 1 .1L/s) |
真空測(cè)量 | 全量程復(fù)合真空規(guī)(進(jìn)口):1.0E5Pa-1E-4Pa |
系統(tǒng)極限真空 | ≤5E-3Pa |
濺射電源 | 磁控濺射電源,功率150W |
可用靶材 | 所有金屬靶材,ITO靶材 |
濺射電壓 | 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化 |
濺射電流 | 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長(zhǎng)5mA |
濺射時(shí)間 | 0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長(zhǎng)1s |
操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
操作方式 | 一鍵操作 |
抽氣節(jié)拍 | <15分鐘 |
控制方式 | 只需設(shè)定濺射電流和時(shí)間即可,全自動(dòng)控制 具備預(yù)濺射擋板(預(yù)濺射時(shí)間可設(shè)定),全自動(dòng)控制 |
保護(hù)功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作,具備電流、真空保護(hù)等 |
樣品臺(tái)直徑 | φ125mm,可自轉(zhuǎn),可自動(dòng)手動(dòng)控制,轉(zhuǎn)速4-40rpm可調(diào) |
真空室 | 高硅硼玻璃,規(guī)格尺寸約φ200×130mm |
電源供電 | 220V 50Hz 功率800W |
尺寸&重量 | 重量 424(長(zhǎng)) ×345(深) ×420mm(高)、 25 kg (凈重) |
冷卻方式 | 內(nèi)部風(fēng)冷 |
選配 | 樣品臺(tái)選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測(cè)等 |
鍍膜樣品示例:
靶材-銀 靶材-鎢 靶材-鉻
靶材-鎳 靶材-釩 靶材-錫
靶材-銅 靶材-鉭 靶材-貼
靶材-鈦 靶材-鉛 靶材-鉬
靶材-鋁 靶材-鉑 靶材-金
靶材-鋯 靶材-鉺 靶材-ITO