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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機>URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機

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URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京中科復(fù)華科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 URE-2000/17/25/35/34AL
  • 產(chǎn)地 成都
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/4/7 10:06:04
  • 訪問次數(shù) 167
產(chǎn)品標(biāo)簽

光刻機

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北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器,擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。   未來公司將不斷和引進在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品,同時也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。 

納米圖形發(fā)生器,離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機、去膠設(shè)備等

1. 技術(shù)參數(shù)

UV光源:進口LED模塊

曝光中心波長:365nm

光源平行性:2o

曝光分辨率:0.8um-1um

曝光能量密度:>35mW/cm2可調(diào)

照度不均勻性:≤2.5%(150mm范圍)

曝光面積:160mm*160mm

光源壽命:2萬小時

曝光設(shè)定:定時

曝光頭工作模式:曝光位對準(zhǔn)位自動切換(前后移動)

套準(zhǔn)精度:±0.8-1 um

可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式,

間隙設(shè)定方式:數(shù)字設(shè)定曝光間隙,自動分離和消除間隙

樣片、掩模版相對移動范圍:X: ±5mm, Y: ±5mmθ=±6o

掩模版找平方式:球氣浮自動找平

可支持掩模版尺寸: 3″×3″、4″×4″5″×5″、7″×7″ 各一件

標(biāo)配承片臺 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸

標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度:0.1-6mm,其他尺寸可定制

可設(shè)計工作厚度:50mm

雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡或者光學(xué)鏡頭+CCD+顯示器:可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過CCD+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)倍數(shù)400倍,光學(xué)+電子放大800倍,物鏡三對:4倍、10倍、20倍,目鏡三對:10倍、16倍、20倍

雙物鏡可調(diào)距離范圍:30mm-120mm

顯微掃描范圍:Y:±40mm電動,數(shù)字設(shè)定)

  設(shè)備尺寸:≤700mm




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