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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備>退火爐> 法國Annealsys真空快速退火爐AS-ONE

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法國Annealsys真空快速退火爐AS-ONE

具體成交價以合同協(xié)議為準

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昱臣半導體技術(shù)(香港)有限公司是專業(yè)的半導體及微電子領(lǐng)域儀器設(shè)備供應(yīng)商,昱臣半導體技術(shù)(香港)有限公司所代理的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、半導體企業(yè)。

昱臣半導體技術(shù)(香港)有限公司目前代理的主要產(chǎn)品包括:

- 霍爾效應(yīng)測試儀(Hall Effect Measurement System);

- 快速退火爐(RTP);

- 回流焊爐,真空燒結(jié)爐(Reflow Solder System);

- 探針臺(Probe Station),低溫探針臺(Cryogenic Probe Station);

- 貼片機(Die Bonder),劃片機(Scriber),球焊機/鍥焊機(Wire Bonder);

- 原子層沉積系統(tǒng)(ALD),等離子增強原子層沉積設(shè)備(PEALD);

- 磁控濺射鍍膜機(Sputter),電子束蒸發(fā)鍍膜機(E-beam Evaporator),熱蒸發(fā)鍍膜機(Thermal Evaporator),脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;

- 低壓化學氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD),等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),快速熱化學氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD);

- 反應(yīng)離子刻蝕機(RIE),ICP刻蝕機,等離子體刻蝕機;

- 致冷機/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler);

- 加熱臺、熱板、烤膠臺 (Hot Chuck / Hot Plate);

- 掃描開爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe),光反射膜厚儀(Reflectometer);

- 高溫超導磁體(HTS Magnet),快速場循環(huán)核磁共振弛豫測試儀(FFC Reflexometer);






原子層沉積系統(tǒng),快速退火爐,PECVD,刻蝕機

產(chǎn)地:法國AnnealSys;

型號:AS-One100/AS-One150

 

AS-ONE立式快速退火爐為法國AS公司生產(chǎn),分為AS-ONE 100, 150, 200三個型號,分別對應(yīng)4英寸、6英寸、8英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。

 

應(yīng)用:

 - 快速熱退火  RTA;

 - 快速熱氧化 RTO;

 - 擴散,接觸退火;

 - 化合物半導體退火;

 - 氮化,硅化;

 - 硒化,硫化;

 - 石墨烯沉積,碳納米管生長;

 - 晶體化,致密化;

 

技術(shù)規(guī)格:

規(guī)格

AS-ONE 100

AS-ONE 150

腔體尺寸

130mm直徑 x 25mm

200mm直徑 x 25mm

紅外燈數(shù)量/功率

12 / 30KW

18 / 34KW

紅外燈冷卻方式

風扇

風扇

標準溫度范圍

室溫 ~ 1250°C

室溫 ~ 1200°C

選配高溫版本范圍

室溫 ~ 1500°C

室溫 ~ 1300°C

升溫速度

0.1°C ~ 200°C/s

0.1°C ~ 150°C/s

溫度控制

快速數(shù)字PID控制器

快速數(shù)字PID控制器

熱電偶

K

K

高溫計

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

氣體注入

石英視窗以下

石英視窗以下

清洗氣路

標準配置

標準配置

工藝氣路方式/數(shù)量

MFC / 5

MFC / 5

真空獲得系統(tǒng)

干泵(10-2Torr)

分子泵(10-6Torr)

干泵(10-2Torr)

分子泵(10-6Torr)

尺寸/重量

510mm x 1425mm x 800mm / 194Kg

510mm x 1425mm x 800mm / 240Kg

參考客戶:

清華大學、北京大學、復(fù)旦大學、華南理工大學、天津中電十八所、南京中電五十五所、GE上海研發(fā)中心、南方科大、深圳大學等。


大尺寸樣品快速退火爐

 

快速退火爐(RTP/RTA)是半導體材料和器件常用的一款工藝設(shè)備??焖偻嘶馉t可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。

 

儀器特點:

  -  快速熱處理、快速熱退火  RTP / RTA;

  -  可在真空、甚至于高真空環(huán)境使用;

  -  廣泛用于太陽能電池片快速退火工藝,如156mm X 156mm電池片,300mm X 300mm電池片等;


相關(guān)分類

氧化擴散設(shè)備


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