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Φ4英寸兼容觸摸屏式前裝式

真空工藝快速加熱爐RTP-100

RTP-100前裝式真空工藝高速退火爐

RTP-100 前裝式

真空工藝快速退火爐

設備尺寸：505 x 505 x 570 mm (WxDxH)

設備重量：約 55 kg

非常適合原型開發(fā)。

加熱區(qū)域的頂部和底部配備IR（紅外線）型加熱器，最高溫度可達1200℃，并可高速升溫150K/秒。采用氮氣吹掃方式的冷卻方式，降溫速度高達190K/min。（1200至400℃，此后25K/min。）

觸摸屏用于輪廓程序控制。

除了創(chuàng)建溫度控制、氣體流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您還可以保存過程數(shù)據(jù)。

它可以加熱最大100x100mm或Φ100mm的物體。

盡管桌面尺寸可實現(xiàn)最高溫度1200℃的真空工藝快速加熱爐。

兼容氮氣吹掃、氧氣吹掃、合成氣（氫氣+氮氣）吹掃等。

由于工作區(qū)域是氣體保護的，因此可用于存在污染問題的工藝或其他關鍵工藝。

加熱由頂部和底部的 24 個 IR（紅外線）加熱器進行，可實現(xiàn)準確、快速的加熱。

與適當?shù)恼婵毡媒Y合，可實現(xiàn)高達0.1 Pa (10 -3 hPa)的真空環(huán)境。

兼容氮氣吹掃法的溫度下降

標準配備觸摸屏顯示器。通過觸摸操作輕松操作

主機上最多可注冊50個50段（行）的溫度控制程序。