化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備>其它晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備>AT2 Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀
AT2 Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀
| 參考價(jià) | ￥ 59 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 優(yōu)尼康科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) AT2
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/6/28 14:20:19
- 訪問(wèn)次數(shù) 800
產(chǎn)品標(biāo)簽
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主動(dòng)式減震臺(tái),Profilm3D光學(xué)輪廓儀,Filmetrics膜厚測(cè)量?jī)x,薄膜厚度測(cè)量?jī)x,粗糙度測(cè)量,輪廓測(cè)量，橢偏儀
| 產(chǎn)品名稱 | Lumina | 型號(hào) | AT2 |
|---|---|---|---|
| 是否為進(jìn)口 | 進(jìn)口 | 可售賣(mài)地 | 全國(guó) |
產(chǎn)品特點(diǎn)：
實(shí)現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。
實(shí)用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。
在2分鐘內(nèi)掃描并顯示300毫米晶圓。
動(dòng)態(tài)補(bǔ)償表面翹曲。
可以標(biāo)刻出缺陷的位置，以便進(jìn)一步分析。
可容納高達(dá)450 x 450 mm的非圓形和易碎基板。
能夠通過(guò)一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。
系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)的四個(gè)檢測(cè)通道：
偏光（污漬、薄膜不均勻性）
坡度（劃痕、表面形貌）
反射率（內(nèi)應(yīng)力、條紋）
暗場(chǎng)（顆粒、夾雜物）
AT2應(yīng)用：
1.透明基底上的缺陷
2.單層污漬或薄膜不均勻性
3.化合物半導(dǎo)體的晶體缺陷
在化合物半導(dǎo)體基底和外延生長(zhǎng)層上檢測(cè)和分類多種類型的晶體缺陷
AT2的多用途：
缺陷類型
薄厚基板
透明和不透明基板
電介質(zhì)涂層
金屬涂層
鍵合硅片
開(kāi)發(fā)和在線生產(chǎn)
AT2 軟件使用來(lái)自多個(gè)探測(cè)器任意組合的數(shù)據(jù)生成缺陷圖和報(bào)告：
地圖和位置
缺陷數(shù)量
彩色編碼缺陷
缺陷尺寸
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