1.產(chǎn)品概述：

該設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測(cè)量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對(duì)接。

2.設(shè)備用途：

熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過(guò)對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過(guò)程。可在高真空下蒸發(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應(yīng)用于物理，生物，化學(xué)，材料，電子等域。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機(jī)物等。

3.真空室：

真空室結(jié)構(gòu):方形開(kāi)門(mén)

真空室尺寸:400×400×450mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:3個(gè)鎢舟、2個(gè)有機(jī)源

樣品尺寸，溫度:4寸，1片，高800℃

占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:約2.5米×1.2米×1.8米

電控描述:全自動(dòng)

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±5%