RIE等離子刻蝕機(jī)
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 SENTECH
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/10/10 9:52:10
- 訪問次數(shù) 179
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顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),DNA/RNA合成儀,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,光刻機(jī),
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè),制藥,綜合 |
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RIE等離子刻蝕機(jī)
低成本效益高
RIE等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200結(jié)合平行板等離子體源設(shè)計與直接置片。
升級擴(kuò)展性
根據(jù)其模塊化設(shè)計,等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200可升級為更大的真空泵組,預(yù)真空室和更多的氣路。
SENTECH控制軟件
該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
Etchlab 200 RIE等離子刻蝕機(jī)代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計和直接置片的成本效益設(shè)計的優(yōu)點。Etchlab 200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設(shè)計特點。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測。
Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導(dǎo)體,介質(zhì)和金屬。
Etchlab 200通過的SENTECH控制軟件操作,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。