RIE等離子刻蝕機2
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 SENTECH
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/10/10 9:54:04
- 訪問次數(shù) 135
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產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè),石油,地礦,制藥 |
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RIE等離子刻蝕機2
工藝靈活性
RIE蝕刻機SI 591 特別適用于氯基和氟基等離子蝕刻工藝
占地面積小且模塊化程度高
SI 591 可配置為單個反應腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設備。
SENTECH控制軟件
RIE等離子刻蝕機2包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
預真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件,使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地面積小是SI 591的設計特點。樣品直徑大可達200mm,通過載片器加載。SI 591可以配置為穿墻式操作或具有更多選項的小占地面積操作。
位于頂部電極和反應腔體的更大診斷窗口可以輕易地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH橢偏儀進行原位監(jiān)測。
SI 591結合了計算機控制的RIE平行板電極設計的優(yōu)點和預真空室系統(tǒng)。SI 591可配置用于各種材料的刻蝕。在SENTECH,我們提供不同級別的自動化程度,從真空片盒載片到一個工藝腔室或多六個工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 591也可用作多腔系統(tǒng)中的一個工藝模塊。