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VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機

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海德堡有掩膜

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模(0.8至1.4 m)的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設(shè)計的最大的系統(tǒng)。它是平板顯示器 (FPD) 應(yīng)用的好的選擇,例如 TFT 陣列、彩色濾光片和 ITO。這些工具還用于先進封裝、半導(dǎo)體、LED 和觸摸屏應(yīng)用的工業(yè)大面積光掩模應(yīng)用。

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機

大光刻面積VPG+:技術(shù)的領(lǐng)航
大光刻面積的VPG  +維持原VPG系列為根基再進化,使其更加出色。VPG于2007年推出;  是擁有專量產(chǎn)型曝光技術(shù)光刻系統(tǒng),可靠和經(jīng)濟的解決方案,適用于要求嚴謹?shù)难谀ぐ逯圃臁?/span>

速度更快:超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發(fā)的高速光學(xué)調(diào)制器,在速度下,曝光時間可以達到原始VPG的三倍!強化了曝光動能與數(shù)據(jù)傳輸路徑。

功能和選項:配備性能
VPG  +可配置各種平臺尺寸,最大可達1400mmx1400mm。  該系統(tǒng)具有355nm波長的紫外激光源,空氣軸承平臺,半自動或全自動入料器,用于基板裝載的溫控環(huán)境室。

應(yīng)用:光罩制造和直接寫入
大光刻面積的VPG  +系統(tǒng)適用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light  emitting diodes, touch panel以及l(fā)ife  science應(yīng)用。出色的圖像質(zhì)量和對位功能,也非常適合在大面積執(zhí)行多層套刻直寫。

VPG+  最大型的設(shè)備VPG+  1400專門針對顯示器相關(guān)行業(yè)應(yīng)用:是所有VPG+系列中功能具有極其完善的溫控環(huán)境室,差分干涉儀和先進的mura校正以及面板間距優(yōu)化功能。






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