1. 產(chǎn)品概述

SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器是一種經(jīng)過驗(yàn)證的光學(xué)診斷工具，可實(shí)現(xiàn)單個(gè) ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應(yīng)用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性（生長(zhǎng)速率、厚度、折射率以及蝕刻速率），在短時(shí)間內(nèi)開發(fā)新工藝，以及實(shí)時(shí)研究 ALD 和 ALE 周期期間的反應(yīng)機(jī)理。

2. 主要功能與優(yōu)勢(shì)

高效的工藝開發(fā)和優(yōu)化

使用單原子層沉積 （ALD） 或原子層蝕刻 （ALE） 循環(huán)可以快速輕松地開發(fā)和優(yōu)化原子層工藝。SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器以 40 ms 的超高時(shí)間分辨率顯示吸附和解吸。節(jié)省了工藝、基材、驅(qū)體和氣體的開發(fā)時(shí)間。

保存驅(qū)體

使用 SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)控器進(jìn)行優(yōu)化后，ALD 處理變得更加高效。節(jié)省了驅(qū)體和處理時(shí)間。

驅(qū)體制品控制

當(dāng)驅(qū)體供應(yīng)耗盡時(shí)，SENTECH AL實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器檢測(cè)到的每個(gè)周期的生長(zhǎng)變化會(huì)立即顯示出來(lái)。

靈活性和模塊化

創(chuàng)新的 SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器為快速高效的工藝開發(fā)和優(yōu)化而設(shè)計(jì)，可使用 SENTECH PEALD 和 ALD 系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化。

一個(gè)軟件即可輕松操作 SENTECH PEALD 系統(tǒng)、SENTECH ALE 系統(tǒng)和 SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)器。

用于光學(xué)常數(shù)的大型材料庫(kù)支持新工藝的開發(fā)，并可以通過非原位表征進(jìn)行擴(kuò)展。

SENTECH AL 實(shí)時(shí)監(jiān)控器集成到 SENTECH SIA 操作軟件中，確保操作簡(jiǎn)單。