化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>物理氣相沉積設(shè)備>NEXUS IBD-LDD 離子束沉積設(shè)備
NEXUS IBD-LDD 離子束沉積設(shè)備
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Veeco
- 型號(hào) NEXUS IBD-LDD
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/6 10:02:06
- 訪問(wèn)次數(shù) 154
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1.產(chǎn)品概述：
NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設(shè)備，VEECCO憑借25年來(lái)在離子束產(chǎn)品域建立導(dǎo)地位，實(shí)現(xiàn)當(dāng)下無(wú)缺陷的EUV掩模空白。
2.產(chǎn)品工藝：
光掩模制造需要高水平的顆?？刂?，同時(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來(lái)，Veeco已成功服務(wù)于光掩模市場(chǎng)，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)先進(jìn)的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當(dāng)EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進(jìn)薄膜的掩模應(yīng)用。
3.產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的平臺(tái)
低的缺陷密度
優(yōu)異的均勻性和可重復(fù)性
高反射率
在同一腔室中沉積多種材料
可以集成到其他過(guò)程模塊中，集成到集群工具中
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