Propel HVM GaN 金屬有機化學(xué)氣相沉積
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Veeco
- 型號 Propel HVM GaN
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/9/5 15:28:38
- 訪問次數(shù) 323
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1.產(chǎn)品概述：
Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng)，適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺，能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能，以實現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達(dá)6個模塊化集群室，以實現(xiàn)最大的生產(chǎn)力和靈活性，是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。
2.產(chǎn)品優(yōu)勢：
單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計，采用突破性技術(shù)，包括IsoFlange™和SymmHeat™，可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布?？蛻艨梢暂p松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺，以實現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期.
Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng)，適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺，能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能，以實現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達(dá)6個模塊化集群室，以實現(xiàn)大的生產(chǎn)力和靈活性，是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。
單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計，采用突破性技術(shù)，包括IsoFlange™和SymmHeat™，可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布?？蛻艨梢暂p松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺，以實現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期。
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