C2GR16-立式氣相沉積爐
- 公司名稱 上海皓越真空設備有限公司
- 品牌 HAOYUE/皓越
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/11/22 11:51:19
- 訪問次數(shù) 487
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一、設備基本原理與特點
1.基本原理:
熱誘導化學氣相沉積(英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式,無論是單晶,多晶,無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導體工業(yè)的典型要求,根據(jù)工藝參數(shù),可以有多種層厚度,從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護層或功能層,以及厚度達100微米的單片部件,甚至高達數(shù)毫米。
2.設備特點:
(1)采用臥式、側開門結構,裝、卸料精度高,操作方便;
(2)采用先進的控制技術,能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動范圍小;
(3)溫度均勻性好,平均溫度均勻性為±5℃;
(4)采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
(5)全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
(6)安全性能好,采用HMI+PLC+PID程序控制,安全可靠;
(7)對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進行有效處理;
(8)多級高效尾氣處理系統(tǒng),環(huán)境友好,能高效收集焦油及副產(chǎn)物,易清理;
(9)采用設計防腐蝕真空機組,持續(xù)工作時間長,維修率極低。
二、C2GR16-立式氣相沉積爐(主要技術參數(shù):
1 | 編號 | C2GR16 |
2 | 產(chǎn)品型號 | VHCgr-20/20/30-1600 |
3 | 最高設計溫度(℃) | 1600 |
4 | 加熱元件 | 等靜壓石墨 |
5 | 加熱功率(kW) | 45 |
6 | 冷態(tài)極限真空度(Pa) | 6.7x10-3Pa(空爐、冷態(tài)、經(jīng)凈化) |
7 | 測溫元件 | 鎢錸熱電偶 |
8 | 升溫速率 | 1~20℃/min |
9 | 溫度均勻性 | ±5℃(5點測溫,恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測) |
10 | 爐膛尺寸(mm) | 200x200x300(WxHxD) |
11 | 可通入氣氛 | 1路CH3SiCI3、1路氨氣、1路氫氣、1路氮氣 |
12 | 氣氛流量計 | 4路質(zhì)量流量計 |
13 | 設備外形尺寸(mm) | 1425x1550x1850mm(LxWxH) |