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GNP CLEANER-412R CMP后清洗機

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半導(dǎo)體濕法清洗

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 基本參數(shù)

適用晶圓尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")

配置:輸入噴淋清洗,兩個雙面刷清洗和旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選:分離QDR)

清洗機尺寸:1610w 1260d 1640hmm電刷尺寸:070(外徑)031(內(nèi)徑)170()毫米

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué):nh4ohDIW

刷頭型式:PVA刷頭,可同時清洗晶圓片的正反面

刷位調(diào)節(jié):手動控制(可用刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±5%范圍30 ~ 400rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過毛刷

可用化學(xué)品:2個化學(xué)品[NH4OH]

化學(xué)和DI流量:<滿量程的±5%。

轉(zhuǎn)站

選項:超高速掃描

旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/DI漂洗/ N2

控制工藝流程:手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC式。





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