C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)

主要用途  主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。

（1） 這是一臺雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī)；

（2） 這臺機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作；

（3） 同時(shí)又是一臺檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀。

C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)主要性能指標(biāo)

（1） 高均勻性LED曝光頭。

 光強(qiáng)≤20mw；曝光面積：100mm×100mm

 曝光不均勻性≤3%

 曝光強(qiáng)度≥30mW/cm2可調(diào)

 紫外光束角≤3°

 紫外光中心波長365nm、404nm、435nm可選

 紫外光源壽命：≥2萬小時(shí)

 電子快門精準(zhǔn)控制

 對準(zhǔn)精度1微米、曝光精度1微米、套刻精度1微米

（2） 觀察系統(tǒng)為上下各兩個(gè)單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過視屏線連接計(jì)算機(jī)到液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續(xù)變倍顯微鏡；

b、 CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為：1/3″,6mm；

c、 采用19″液晶監(jiān)視器，其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d、 觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為：0.7×57≈40倍（最小倍數(shù)）

   4.5×57≈256(最大倍數(shù)）或(91倍～570倍）

e、 右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開關(guān)：向左為下二個(gè)CCD，向右為上二個(gè)CCD。

（3） 計(jì)算機(jī)硬軟件系統(tǒng)：

a、鼠標(biāo)單擊“開始對準(zhǔn)”，能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來，并處理成透明的，以便對新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對準(zhǔn)；

b、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形，就分別全屏顯示左或右面圖形。

（4） 非常特殊的板架裝置：

a、該裝置能分別裝入152×152板架，對版進(jìn)行真空吸附；

b、該裝置安裝在機(jī)座上，能圍繞A點(diǎn)作翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，相對于承片臺而言作上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，以便于上下版和上下片；

c、該裝置來回反復(fù)翻轉(zhuǎn)，回到承片臺上平面的位置，重復(fù)精度為≤±1.5µ；

d、該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能，保證版下平面與片上平面之良好接觸，以便提高曝光質(zhì)量。

（5） 承片臺調(diào)整裝置：

a、 配備有Φ75、Φ100承片臺各一個(gè)，這二種承片臺有二個(gè)長方孔，下面二個(gè)CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面；

b、 承片臺能作X、Y、Z、θ運(yùn)動(dòng)，X、Y、Z可作±5mm運(yùn)動(dòng)，θ運(yùn)動(dòng)為±5°；

c、 承片臺密著環(huán)相對于版，能實(shí)現(xiàn)“真空密著”：

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸；

真空密著力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸；

          真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸；