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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)> C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

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C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

參考價 99
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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      北京長恒榮創(chuàng)科技有限公司是一家專業(yè)的光學(xué)顯微鏡提供商,是一家以生產(chǎn)、研發(fā)、銷售高品質(zhì)顯微鏡的科技公司,公司經(jīng)營的主要產(chǎn)品有:倒置顯微鏡,倒置金相顯微鏡,正置金相顯微鏡,偏光顯微鏡,熒光顯微鏡,數(shù)碼顯微鏡產(chǎn)品及各種分析處理軟件。我公司產(chǎn)品廣泛用于機(jī)械、電子、冶金、化工、航空、天文、輕工、農(nóng)業(yè)等各行業(yè)和科研、教育、國防等部門, 企業(yè)產(chǎn)品遍及國內(nèi)外,深受國內(nèi)外廠家及客商的歡迎。

 

      公司面向現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)*的應(yīng)用領(lǐng)域,秉承“以客戶需求為基本出發(fā)點”的宗旨,堅持“制定科學(xué)設(shè)計方案,提供*產(chǎn)品,構(gòu)建完善售后服務(wù)”的原則,竭誠歡迎光學(xué)儀器領(lǐng)域中的有相當(dāng)專長的人士和機(jī)構(gòu)進(jìn)行各種形式的合作。

 

奧林巴斯顯微鏡、徠卡顯微鏡、

照明 高均勻性LED曝光頭 光強(qiáng) 不超過20毫瓦
曝光面積 100毫米×100毫米 曝光不均勻性 不超過3%
曝光強(qiáng)度 可調(diào)至不低于30毫瓦/平方厘米 紫外光束角度 不超過3度
紫外光中心波長 365納米、404納米、435納米

C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備主要用途:

C-33型光刻機(jī)被廣泛應(yīng)用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。它的高級找平機(jī)構(gòu)使其適用于各種材料的曝光,包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等。

雙面對準(zhǔn)單面曝光:這臺機(jī)器具備雙面對準(zhǔn)單面曝光功能,可以在一個工藝中對準(zhǔn)并曝光兩側(cè),提高了生產(chǎn)效率。

普通光刻機(jī)工作:除了雙面對準(zhǔn)單面曝光,它還可以執(zhí)行普通光刻機(jī)的各種工作任務(wù)。

雙面對準(zhǔn)精度檢查:此外,它還充當(dāng)了一個檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀,確保產(chǎn)品的高質(zhì)量和精確度。


C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備主要性能指標(biāo):

高均勻性LED曝光頭:

光強(qiáng):不超過20毫瓦

曝光面積:100毫米×100毫米

曝光不均勻性:不超過3%

曝光強(qiáng)度:可調(diào)至不低于30毫瓦/平方厘米

紫外光束角度:不超過3度

紫外光中心波長:365納米、404納米、435納米可選擇

紫外光源壽命:不低于2萬小時

電子快門精準(zhǔn)控制

對準(zhǔn)精度:1微米

曝光精度:1微米

套刻精度:1微米

觀察系統(tǒng):

采用上下各兩個單筒顯微鏡,每個上裝有四個CCD攝像頭,通過視屏線連接到計算機(jī)和液晶顯示屏。

單筒顯微鏡可連續(xù)變倍,范圍從0.7倍至4.5倍。

CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸:1/3英寸,6毫米。

使用19英寸液晶監(jiān)視器,數(shù)字放大倍率最高可達(dá)57倍。

觀察系統(tǒng)的放大倍數(shù)范圍:最小40倍,最大256倍,或者介于91倍至570倍之間。

右側(cè)板上設(shè)有一個視屏轉(zhuǎn)換開關(guān),向左為下面兩個CCD,向右為上面兩個CCD。

計算機(jī)硬件和軟件系統(tǒng):

鼠標(biāo)單擊“開始對準(zhǔn)”按鈕,可以將監(jiān)視屏上的圖形記錄下來,并將其處理為透明的,以便對新進(jìn)圖形進(jìn)行對準(zhǔn)。

鼠標(biāo)雙擊左側(cè)或右側(cè)的圖形,可以分別在整個屏幕上顯示左側(cè)或右側(cè)的圖形。

特殊的板架裝置:

該裝置可以裝入152×152的板架,并對版進(jìn)行真空吸附。

裝置安裝在機(jī)座上,能夠圍繞點A進(jìn)行翻轉(zhuǎn)運動,相對于承片臺進(jìn)行上下翻轉(zhuǎn)運動,以便對上下版和上下片進(jìn)行操作。

該裝置可以反復(fù)翻轉(zhuǎn),回到承片臺上的平面位置,重復(fù)精度不超過±1.5微米。

此裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差的功能,確保上下版平面與上下片平面緊密接觸,提高曝光質(zhì)量。

承片臺調(diào)整裝置:

配備Φ75和Φ100兩種承片臺,每個承片臺都有兩個長方形孔,下面的兩個CCD可以通過這些孔觀察到板或片的下平面。

承片臺可以進(jìn)行X、Y、Z和θ運動,X、Y、Z的運動范圍為正負(fù)5毫米,θ運動范圍為正負(fù)5度。

承片臺密著環(huán)可以實現(xiàn)“真空密著”,真空密著力可調(diào),分為硬接觸、軟接觸和微力接觸。




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