AT 200M 迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京盈思拓科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) AT 200M
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/11/18 15:45:23
- 訪問次數(shù) 775
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,綜合 |
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原子層沉積系統(tǒng)ALD
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市場上占地面積最小的 ALD（原子層沉積）工具。AT200M 體積小巧，可以放入手套箱中，因此是濕氣或空氣敏感沉積的解決方案。
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占地面積?。▇ 15 in3 或 38.1 cm3）
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半導(dǎo)體級(jí)元件
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金屬密封管路
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通風(fēng)前驅(qū)體外殼
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兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，帶有超快速 MFC，用于集成惰性氣體吹掃
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前驅(qū)體（最高 150°C），歧管，腔室加熱以確保無冷凝。
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強(qiáng)大的 PLC 驅(qū)動(dòng)用戶界面
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不銹鋼腔室可加熱至 300°C。
規(guī)格：
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腔室溫度從 RT 到 300°C ± 1 °C
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前驅(qū)體溫度從 RT 到 150°C ± 2°C（帶加熱夾套）
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市場上占地面積最?。?.6 平方英尺），臺(tái)式安裝，兼容潔凈室，也適合手套箱。
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系統(tǒng)維護(hù)簡單，公用設(shè)施和前驅(qū)體使用量低。
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腔室容積小
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非常快速的循環(huán)能力。
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完整的硬件和軟件互鎖，即使在多用戶環(huán)境中也能安全操作
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