《電子工業(yè)用凈水設(shè)備化工用去離子水機(jī)工藝》

電子工業(yè)用凈水設(shè)備化工用去離子水機(jī)均采用了一系列復(fù)雜且精密的工藝，以滿足各自行業(yè)對高品質(zhì)水的特殊需求。電子工業(yè)用凈水設(shè)備工藝：首先是預(yù)處理工藝。原水進(jìn)入設(shè)備后，先通過機(jī)械過濾器，如多介質(zhì)過濾器，其中的石英砂、活性炭等濾料可去除水中的大顆粒懸浮物、膠體以及部分有機(jī)物和余氯，這能有效保護(hù)后續(xù)的精密過濾和膜處理單元。接著是超濾工藝，超濾膜憑借其微小的孔徑，可以過濾掉水中的大分子有機(jī)物、膠體、細(xì)菌和病毒等，進(jìn)一步凈化水質(zhì)。然后進(jìn)入反滲透工藝，這是核心環(huán)節(jié)之一，在高壓作用下，水通過反滲透膜，而絕大多數(shù)的溶解性鹽類、重金屬離子、微生物等雜質(zhì)被截留，使水的純度大幅提升，此時(shí)水的電阻率可達(dá)到一定水平，但對于電子工業(yè)某些超精密環(huán)節(jié)仍不夠。最后通過離子交換樹脂床或連續(xù)電去離子（EDI）工藝進(jìn)行深度除雜，離子交換樹脂通過與水中離子進(jìn)行交換反應(yīng)，去除殘余的少量離子，EDI 則結(jié)合了離子交換和電滲析技術(shù)，在電場作用下進(jìn)一步去除離子并實(shí)現(xiàn)樹脂的自動再生，最終使水的電阻率達(dá)到 18.2 兆歐·厘米甚至更高，滿足電子芯片制造、高精度電子元件生產(chǎn)等對超純水高的要求，防止水中雜質(zhì)對電子器件性能產(chǎn)生哪怕微小的影響。化工用去離子水機(jī)工藝：原水先經(jīng)過絮凝沉淀工藝，通過添加絮凝劑使水中的懸浮顆粒和膠體聚集成較大顆粒沉淀下來，初步降低水的濁度。隨后進(jìn)行過濾工藝，如砂濾和活性炭濾，去除水中剩余的懸浮物、有機(jī)物和余氯。之后采用離子交換工藝，分為陽離子交換和陰離子交換。陽離子交換樹脂用氫離子交換水中的鈣、鎂、鐵等陽離子，陰離子交換樹脂用氫氧根離子交換水中的氯離子、硫酸根離子等陰離子，經(jīng)過這一過程，水中的大部分離子被去除，硬度和鹽分顯著降低，有效防止在化工生產(chǎn)中因水中雜質(zhì)離子引發(fā)的副反應(yīng)，如在化學(xué)反應(yīng)中影響催化劑活性、導(dǎo)致產(chǎn)品純度下降或產(chǎn)生沉淀堵塞管道等問題。部分化工用去離子水機(jī)還會在離子交換后設(shè)置反滲透工藝進(jìn)行進(jìn)一步的凈化和除鹽，以滿足更高要求的化工生產(chǎn)需求，如某些精細(xì)化工產(chǎn)品的制造或?qū)λ|(zhì)要求極為嚴(yán)格的化工工藝過程。