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涂膠顯影

參考價(jià)0.01
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 武漢賽斯特精密儀器有限公司
  • 品牌其他品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地武漢市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2025/3/17 19:59:57
  • 訪問(wèn)次數(shù) 91
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涂膠顯影Track

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  武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主,同時(shí)銷售各種、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開(kāi)發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗(yàn)軟件,并采用全數(shù)字化,操作簡(jiǎn)捷,*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求,公司亦通過(guò)了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國(guó)家計(jì)量體系認(rèn)證,榮獲了“武漢市第九界消費(fèi)者滿意單位”的稱號(hào)。
  產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子、高校、政府研究機(jī)構(gòu)、環(huán)保機(jī)構(gòu)、石油化工、紡織制造、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)、*別研究院、新能源、集成電路、芯片、封裝測(cè)試、半導(dǎo)體行業(yè)、顯示器領(lǐng)域、光電材料、鋰電池、機(jī)械生產(chǎn)等領(lǐng)域。并與武漢理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等建立了長(zhǎng)期合作,每年投入大量研究經(jīng)費(fèi),招攬各方優(yōu)秀的技術(shù)人才加盟突破國(guó)內(nèi)技術(shù)壁壘,不斷攻克新的技術(shù)難題,另外公司還積極拓展海外業(yè)務(wù),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷越南,印度,埃及等國(guó)家和地區(qū)。
  本著“專業(yè)品質(zhì),專業(yè)服務(wù)”為宗旨,以“科技、品質(zhì)、競(jìng)爭(zhēng)、創(chuàng)新”為理念,通過(guò)不斷汲取新的技術(shù),新的理念,繼續(xù)開(kāi)發(fā)研制新產(chǎn)品,并為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的售前,售中,售后服務(wù)。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函,來(lái)電,蒞臨我公司參觀指導(dǎo)!


 

實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)儀器,測(cè)試儀器設(shè)備等

適合基板

① φ6英寸硅板        625μm25張標(biāo)準(zhǔn)晶圓架(間隔4.76mm)

② φ4英寸硅板        525um25張標(biāo)準(zhǔn)晶圓架(間隔 4.76mm)

70mm 玻璃板    700μm25張標(biāo)準(zhǔn)晶圓架(間隔4.76mm)

④100mm 玻璃基板700μm25張標(biāo)準(zhǔn)晶圓架(間隔4.76mm)

硅板是 JEITA的規(guī)格品。需要用規(guī)格外的基板,請(qǐng)咨詢。

技術(shù)參數(shù):

1.轉(zhuǎn)速范圍:0-6000rpm

2.加速度范圍:0-50000rpm/sec

3.轉(zhuǎn)速精度:±1rpm

4.熱盤(pán)溫度范圍:50-200

5.熱盤(pán)溫度均勻性:

50.0 ~ 120.0 : Range 0.4

120.1 ~ 150.0 : Range 0.8

150.1 ~ 200.0 : Range 1.2

6.冷盤(pán)溫度范圍:20-30

7.冷盤(pán)溫度均勻性:±0.2

8.適用光刻膠:Max20000CP

9.膠泵類型:Cylinder/Motor Type pump

10.光刻膠或顯影液管路:PFA

11.流量監(jiān)控:Flowmeter+對(duì)射sensor/Finflow/超聲波流量計(jì)


1.可支持多單元靈活定制

2.支持I-Line光刻機(jī),支持KRF工藝

3.支持復(fù)合板,支持循環(huán)水控溫冷板

4.支持工藝參數(shù)數(shù)字化收集

5.支持遠(yuǎn)程監(jiān)控系統(tǒng)

6.支持EAP系統(tǒng)

適用晶圓尺寸:8&6inch 或兼容

設(shè)備尺寸:1850*1700*2600mmSingle block

3110*1700*2500mmOpen daul block

翹曲度:±1mm

應(yīng)用領(lǐng)域:硅基,碳化硅,氮化鎵,濾波器,砷化鎵,優(yōu)良封裝等領(lǐng)域

適用于LED、微機(jī)電、光通訊等領(lǐng)域的涂膠制程

適用于4、6英寸的Si、藍(lán)寶石、三五族化合物(GaAs、InP、GaN等)等晶圓




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