操作模式：

設備采用操作人員取/送基片，自動完成涂膠、自動顯影、自動烘烤處理的生產方式，操作人員通過觸摸屏進行人機交互，完成生產配方和過程的控制；

涂膠單元：

轉速：5000 RPM（空載）

轉速控制精度：±1RPM

轉速調整量：1RPM。

加速度范圍：1000RPM/S 可設定。

電機功率：0.4KW、0.75KW、1.75KW等

涂膠方式：手動\自動滴膠可選

滴膠模式：手動、針筒、壓力罐、膠泵等多種方式可選

廢液組成：光刻膠及其它液體

收集裝置：廢液收集后排放到設備內部的廢液桶。

處理尺寸：≤8英寸，其它規(guī)格尺寸可選

顯影模塊：

顯影模塊包括顯影單元，化學品供應系統(tǒng)，化學品排放系統(tǒng)，有機氣體排放系統(tǒng)。

吸盤系統(tǒng)：真空吸附

轉速：3000  轉/分鐘（負載）。

轉速控制精度： ± 1 轉/分鐘。

最小轉速調整量：1 轉/分鐘。

加速度范圍：5000RPM/S 可設定。

電機功率：0.4KW、0.75KW、1.75KW等

防護罩材料：不銹鋼；

噴嘴組件，顯影臂，驅動電機。

顯影方式：可實現定點，掃描，puddle 顯影方式。

噴頭形式：扇形\柱形

顯影噴嘴高度控制：手動調整。

噴嘴組件，清洗臂，驅動電機

廢液收集后排放到設備內部的廢液桶。

廢氣來源：顯影區(qū)域及防護罩內的揮發(fā)氣體；

廢氣排放：單元內部氣體收集后直排廠務系統(tǒng)。

管路：顯影液、水、氣、背洗等可選

處理尺寸：≤8英寸，其它規(guī)格尺寸可選

熱板：

溫度范圍： RT~200℃;

溫度均勻性：≤±1.5%%；

頂升功能：可選；

上位機軟件：可選；

處理尺寸：≤8英寸，其它規(guī)格尺寸可選

更多功能和處理尺寸需求可溝通詳細了解。