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高純蒸汽和高效電力生產(chǎn)的總有機(jī)碳TOC和硼的在線監(jiān)測

檢測樣品:發(fā)電廠冷凝水

檢測項(xiàng)目:TOC

方案概述:一家跨國能源公司、全球電力和天然氣生產(chǎn)巨擘,發(fā)現(xiàn)其下屬一家發(fā)電廠有二氧化硅沉積問題。沉積物損壞了氣輪機(jī)葉片,導(dǎo)致計(jì)劃外維修。該公司專長于研發(fā)和利用創(chuàng)新技術(shù),想要了解發(fā)電廠問題的根源所在,并尋找一種可持續(xù)的解決方案,以防止以后可能再次發(fā)生停產(chǎn),并維持較佳發(fā)電效率。

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更新時間2023年09月28日

上傳企業(yè)威立雅Sievers分析儀

下載方案

  簡介

  一家跨國能源公司、全球電力和天然氣生產(chǎn)巨擘,發(fā)現(xiàn)其下屬一家發(fā)電廠有二氧化硅沉積問題。沉積物損壞了氣輪機(jī)葉片,導(dǎo)致計(jì)劃外維修。該公司專長于研發(fā)和利用創(chuàng)新技術(shù),想要了解發(fā)電廠問題的根源所在,并尋找一種可持續(xù)的解決方案,以防止以后可能再次發(fā)生停產(chǎn),并維持最佳發(fā)電效率。

  發(fā)電廠根據(jù)市場需求和燃料成本來決定開機(jī)和停機(jī)。當(dāng)工廠重新開機(jī)時,必須確保蒸汽純度,以便克服開機(jī)和停機(jī)時的溫度和壓力波動。

  問題

  發(fā)電廠的操作人員發(fā)現(xiàn)了發(fā)電量下降和氣輪機(jī)振動的問題。他們停機(jī)并打開氣輪機(jī)后,看到了很明顯的白色沉積物,那是各種厚度的二氧化硅沉積在氣輪機(jī)葉片的邊緣處。發(fā)現(xiàn)此問題后,操作人員和研究人員就不得不評估水質(zhì)和水處理過程。

  在鍋爐前面,發(fā)電廠使用由陽離子、陰離子、混合樹脂層單元組成的脫鹽系統(tǒng)。發(fā)電廠重新評估了控制脫鹽系統(tǒng)再生和保持鍋爐給水純度的監(jiān)測參數(shù)。當(dāng)發(fā)電廠開機(jī)和停機(jī)時,減少污染物就變得尤其重要,因?yàn)樵谥匦麻_機(jī)時,污染物可能進(jìn)入蒸汽,然后進(jìn)入氣輪機(jī)。

  以前,發(fā)電廠使用在線型二氧化硅分析儀來監(jiān)測二氧化硅,防止其進(jìn)入蒸汽并沉積在氣輪機(jī)中。但當(dāng)二氧化硅分析儀達(dá)到報(bào)警極限(10 ppb)時,往往來不及停止鍋爐給水和再生混合樹脂層。微量二氧化硅已經(jīng)泄漏到蒸汽中,并進(jìn)入氣輪機(jī)。

  解決方案

  與在線型二氧化硅分析儀相反,在線型硼(Boron)分析儀經(jīng)常被用作0污染監(jiān)測工具,來控制二氧化硅從離子去除工藝(例如:混合樹脂層的離子交換工藝)中泄漏出來。在其他離子泄漏之前,硼率從樹脂層中洗脫出來(見圖1)。在線型硼分析可以檢測到較低15 ppt濃度的硼(見圖2),因此硼分析儀不僅能夠防止二氧化硅進(jìn)入鍋爐,還能防止弱酸、弱堿、以及處理工藝中的其他污染物進(jìn)入鍋爐。除了防止二氧化硅泄漏和管理樹脂層耗盡之外,發(fā)電廠還用簡單、內(nèi)部的方法來決定接受或拒絕鍋爐給水。總有機(jī)碳(TOC)分析法能夠測量樣品水中的離子形式和非離子形式的有機(jī)化合物總和。非離子形式有機(jī)物能夠從處理系統(tǒng)漏出,并在高溫高壓鍋爐中分解成腐蝕性酸氣。在脫鹽系統(tǒng)的后面,發(fā)電廠用TOC分析法來決定是否允許水流入鍋爐以產(chǎn)生蒸汽進(jìn)入氣輪機(jī)。工廠的內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)是TOC〈40 ppb。此時電導(dǎo)率大部分來自TOC,因此冗余參數(shù)為電導(dǎo)率〈0.4μS/cm。

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  圖2

  (a)Sievers*在線硼分析儀監(jiān)測超純水中1、2、3或4樣品流路中的硼,監(jiān)測范圍:15 ppt-20 ppb。

 ?。╞)Sievers*M500在線TOC分析儀測量超純水中的TOC,測量范圍:30 ppt-2.5 ppm。

 ?。╟)Sievers*M9在線和(d)Sievers*M9便攜TOC分析儀的動態(tài)TOC測量范圍:30 ppt–50 ppm,測量范圍廣,測量結(jié)果穩(wěn)定而準(zhǔn)確。

  結(jié)論

  一家大型跨國電力公司使用在線型監(jiān)測工具來保護(hù)設(shè)備資產(chǎn)、控制水處理工藝。保證蒸汽純凈,就能較大程度地提高生產(chǎn)效率,較大程度地減少停機(jī)時間,從而確保電力和天然氣的生產(chǎn)、配送、銷售。

  參考文獻(xiàn)

  1.Sauer et al.,“Boron Removal Experiences at AMD,”Ul-trapure Water,pp.62-68,Vol.17,No.5,2000年5/6月

  2.Dennis,K.(Intel);Godec,R.(GE Analytical Instruments);Kosenka,P.(GE Analytical Instruments),“Progress Report on New On-Line Boron Analysis Research,”Executive Forum Proceedings,Watertech 2000年

  3.Sushma Malhotra(AMD),Otto Chan(AMD),Theresa Chu(Balazs Analytical),and AgotaFusko(Balazs Analytical),“Correlation of Boron Breakthrough versus Resistivity and Dissolved Silica in a RO/DI System,”Ultrapure Water,pp.22-26,Vol.13,No.4,1996年

  4.Wickham,R.(IDT),Godec,R.(GE Analytical Instruments),“Controlling Boron Levels in Semiconductor UPW using an Experimental OnLine Boron Analyzer,”Semiconductor Pure Water and Chemicals Conference,Proceedings,pp 15-33,2001年

  5.Johnson,E.(Micron),Somerville,K.(Micron),Godec,R.(GE Analytical Instruments),Dunn,R.(GE Analytical Instru-ments),“The Analysis of Boron,Colloidal Silica,and Reactive Silica Leakage from Primary and Secondary Regenerable Mixed Ion Exchange Beds in an UPW System,”Executive Fo-rum Proceedings,Watertech 2002年,Portland,OR.

  6.Dunn,R.,“New Analytical Technique Promotes Elimination of Silica in Feed,Steam and Condensate Systems,”Present-ed at International Water Conference,Pittsburgh,PA,2002年10月

  7.Godec,Richard,“Preventing the Release of Nano Materials from Depleting Ion-Exchange Beds by Using an Online Bo-ron,”Presented at ULTRAPURE WATER Conference,Port-land,OR,2011年11月,Tall Oaks Publishing,Inc.

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